Forno de grafitização
Forno de Grafitação a Vácuo de Ultra-Alta Temperatura de Grafite
Número do item : GF-09
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Introdução
O forno de grafitação de ultra-alta temperatura utiliza aquecimento por indução de frequência média em um ambiente de vácuo ou gás inerte. A bobina de indução gera um campo magnético alternado, induzindo correntes parasitas no cadinho de grafite, que aquece e irradia calor para a peça de trabalho, levando-a à temperatura desejada. Este forno é usado principalmente para grafitação e sinterização de materiais de carbono, materiais de fibra de carbono e outros materiais compósitos. Compreende um corpo de forno, tampa, sensor de aquecimento, camada de isolamento, dispositivo de extração de eletrodos, sistema de distribuição de circulação de água, sistema de vácuo, sistema de controle de temperatura e muito mais. O sistema elétrico inclui uma fonte de alimentação de frequência intermediária de transistor IGBT de 60KVA e cabo resfriado a água, equipado com vários instrumentos de indicação e funções de alarme. A parte de controle emprega uma tela sensível ao toque de 15 polegadas e um controlador programável PLC.
Detalhes e Peças

Aplicações
O forno de grafitação de ultra-alta temperatura encontra aplicações em uma ampla gama de indústrias, incluindo:
- Queima de cerâmica
- Crescimento de carboneto
- Carbonização
- Grafitação
- Sinterização
- Recozimento
- Brasagem
- Desgaseificação
Características
O forno de grafitação de ultra-alta temperatura oferece uma gama de recursos avançados que proporcionam benefícios significativos aos usuários:
- Capacidade de alta temperatura: O forno pode atingir temperaturas de até 2200°C, tornando-o adequado para uma ampla gama de aplicações de alta temperatura.
- Alta eficiência: O forno à base de grafite é extremamente eficiente, resultando em menor consumo de energia e tempos de aquecimento mais rápidos.
- Aquecimento uniforme: O design do forno garante aquecimento uniforme em toda a câmara, proporcionando resultados consistentes.
- Ambiente de vácuo ou gás inerte: O forno pode ser operado em um ambiente de vácuo ou gás inerte, permitindo controle preciso da atmosfera ao redor da peça de trabalho.
- Sistema de controle inteligente: O forno é equipado com uma tela sensível ao toque avançada e um controlador programável para controle e monitoramento preciso da temperatura.
- Recursos de segurança: O forno inclui alarmes sonoros e visuais para sobretensão, sobrecorrente e corte de água, garantindo operação segura.
Princípio
O forno de grafitação de ultra-alta temperatura opera com base no princípio de aquecimento por indução de frequência média. A bobina de indução gera um campo magnético alternado, induzindo correntes parasitas no cadinho de grafite. Isso gera altas temperaturas que irradiam para a peça de trabalho, levando-a à temperatura desejada. Este forno é empregado para grafitação e sinterização de materiais de carbono, materiais de fibra de carbono e materiais compósitos.
Vantagens
- Alta temperatura: O forno de grafitação de ultra-alta temperatura pode atingir uma temperatura de 2500°C, adequada para uma variedade de aplicações de tratamento de alta temperatura e tratamento de grafitação.
- Alta eficiência: O forno de grafitação de ultra-alta temperatura utiliza o princípio de aquecimento por indução de frequência média, que tem as vantagens de alta eficiência e aquecimento uniforme.
- Aquecimento uniforme: O forno de grafitação de ultra-alta temperatura usa um cadinho de grafite para gerar alta temperatura e irradiar para a peça de trabalho, o que pode alcançar o aquecimento uniforme da peça de trabalho.
- Ampla aplicação: O forno de grafitação de ultra-alta temperatura é adequado para grafitação e sinterização de materiais de carbono, materiais de fibra de carbono e outros materiais compósitos.
- Fácil de operar: O forno de grafitação de ultra-alta temperatura é controlado por uma tela sensível ao toque de 15 polegadas e um controlador programável PLC, que é fácil de operar.
- Seguro e confiável: O forno de grafitação de ultra-alta temperatura possui funções de alarme sonoro e visual, como sobretensão, sobrecorrente e corte de água, que é seguro e confiável.
Especificação técnica
| Capacidade da fonte de alimentação | 60KVA |
| Fonte de alimentação | 4000~8000Hz (rastreamento automático) |
| Temperatura | 3000℃ |
| Precisão do controle de temperatura | ±2℃ |
| Método de medição de temperatura | 1100℃~3000℃ |
| Tamanho da área de trabalho efetiva | Φ200×200 mm (diâmetro×altura) |
| Grau de vácuo final frio | 133Pa |
| Aumento de pressão | 3,0 Pa/h |
| Atmosfera protetora | Argônio Nitrogênio |
| Pressão de inflação | ≤ 0,03MPa |
| Método de entrada e saída de material | Carregamento e descarregamento superior |
| Condições de aquecimento | Sinterização em atmosfera (gás inerte) |
FAQ
O Que é Um Forno De Grafitização?
What Is A Graphite Vacuum Furnace Used For?
O Que é O Forno CVD?
A deposição química de vapor (CVD) é uma tecnologia que utiliza várias fontes de energia, como aquecimento, excitação de plasma ou radiação de luz para reagir quimicamente substâncias químicas gasosas ou de vapor na fase gasosa ou na interface gás-sólido para formar depósitos sólidos no reator por meio de reação química. simplificando, duas ou mais matérias-primas gasosas são introduzidas em uma câmara de reação e, em seguida, reagem entre si para formar um novo material e depositá-lo na superfície do substrato.
O forno CVD é um sistema de forno combinado com unidade de forno tubular de alta temperatura, unidade de controle de gases e unidade de vácuo, é amplamente utilizado para experimentos e produção de preparação de material composto, processo microeletrônico, optoeletrônico semicondutor, utilização de energia solar, comunicação de fibra ótica, tecnologia de supercondutor, campo de revestimento protetor.
Qual é O Princípio De Funcionamento De Um Forno De Grafitização De Temperatura Ultra-alta?
Quais São Os Principais Componentes De Um Forno De Grafitização De Temperatura Ultra-alta?
Como Manter Um Forno De Grafitização De Temperatura Ultra-alta?
Quais São As Principais Aplicações Dos Fornos De Grafitização?
What Are The Main Types Of Graphite Vacuum Furnaces?
Como é Que O Forno CVD Funciona?
O sistema de forno CVD consiste em uma unidade de forno de tubo de alta temperatura, unidade de controle preciso da fonte de gás reagente, estação de bomba de vácuo e peças de montagem correspondentes.
A bomba de vácuo é para remover o ar do tubo de reação e garantir que não haja gases indesejados dentro do tubo de reação, depois que o forno de tubo aquecerá o tubo de reação a uma temperatura alvo, então a unidade de controle preciso da fonte de gás reagente pode introduzir gases diferentes com uma proporção definida no tubo do forno para a reação química, a deposição de vapor químico será formada no forno CVD.
Quais São Os Diferentes Tipos De Fornos De Grafitização?
How Does A Graphite Vacuum Furnace Work?
Que Gás é Utilizado No Processo CVD?
Existem tremendas fontes de gás que podem ser usadas no processo CVD, as reações químicas comuns do CVD incluem pirólise, fotólise, redução, oxidação, redox, de modo que os gases envolvidos nessas reações químicas podem ser usados no processo CVD.
Tomamos o crescimento de grafeno CVD como exemplo, os gases usados no processo CVD serão CH4, H2, O2 e N2.
Como é Que Um Forno De Grafitização Funciona?
What Are The Advantages Of Using A Graphite Vacuum Furnace?
Qual é A Vantagem Do Sistema CVD?
- Pode ser produzida uma vasta gama de películas, películas metálicas, películas não metálicas e películas de ligas multicomponentes, conforme necessário. Ao mesmo tempo, pode preparar cristais de alta qualidade que são difíceis de obter por outros métodos, como GaN, BP, etc.
- A velocidade de formação da película é rápida, geralmente vários microns por minuto ou mesmo centenas de microns por minuto. É possível depositar simultaneamente grandes quantidades de revestimentos com composição uniforme, o que é incomparável com outros métodos de preparação de filmes, como epitaxia de fase líquida (LPE) e epitaxia de feixe molecular (MBE).
- As condições de trabalho são realizadas sob pressão normal ou condições de baixo vácuo, de modo que o revestimento tem boa difração, e as peças de trabalho com formas complexas podem ser uniformemente revestidas, o que é muito superior ao PVD.
- Devido à difusão mútua do gás de reação, do produto da reação e do substrato, pode obter-se um revestimento com boa força de adesão, o que é crucial para a preparação de películas reforçadas à superfície, tais como películas resistentes ao desgaste e anti-corrosão.
- Algumas películas crescem a uma temperatura muito inferior ao ponto de fusão do material da película. Sob a condição de crescimento a baixa temperatura, o gás de reação e a parede do reator e as impurezas contidas neles quase não reagem, de modo que um filme com alta pureza e boa cristalinidade pode ser obtido.
- A deposição química de vapor pode obter uma superfície de deposição lisa. Isso ocorre porque, em comparação com o LPE, a deposição de vapor químico (CVD) é realizada sob alta saturação, com alta taxa de nucleação, alta densidade de nucleação e distribuição uniforme em todo o plano, resultando em uma superfície lisa macroscópica. Ao mesmo tempo, na deposição de vapor químico, o caminho livre médio das moléculas (átomos) é muito maior do que o LPE, de modo que a distribuição espacial das moléculas é mais uniforme, o que favorece a formação de uma superfície de deposição lisa.
- Baixos danos por radiação, que é uma condição necessária para a fabricação de semicondutores de óxido metálico (MOS) e outros dispositivos
Quais São As Vantagens De Utilizar Um Forno De Grafitização?
What Temperature Range Can A Graphite Vacuum Furnace Achieve?
O Que Significa PECVD?
O PECVD é uma tecnologia que utiliza o plasma para ativar o gás de reação, promover a reação química na superfície do substrato ou no espaço próximo da superfície e gerar uma película sólida. O princípio básico da tecnologia de deposição de vapor químico de plasma é que, sob a ação do campo elétrico de RF ou DC, o gás de origem é ionizado para formar um plasma, o plasma de baixa temperatura é usado como fonte de energia, uma quantidade apropriada de gás de reação é introduzida e a descarga de plasma é usada para ativar o gás de reação e realizar a deposição de vapor químico.
De acordo com o método de geração de plasma, ele pode ser dividido em plasma de RF, plasma de DC e plasma de micro-ondas CVD, etc ...
What Industries Benefit From Graphite Vacuum Furnaces?
Qual é A Diferença Entre CVD E PECVD?
A diferença entre o PECVD e a tecnologia CVD tradicional é que o plasma contém um grande número de electrões de alta energia, que podem fornecer a energia de ativação necessária no processo de deposição de vapor químico, alterando assim o modo de fornecimento de energia do sistema de reação. Uma vez que a temperatura dos electrões no plasma é tão elevada como 10000K, a colisão entre os electrões e as moléculas de gás pode promover a quebra de ligações químicas e a recombinação das moléculas de gás de reação para gerar grupos químicos mais activos, enquanto todo o sistema de reação mantém uma temperatura mais baixa.
Assim, em comparação com o processo CVD, o PECVD pode realizar o mesmo processo de deposição química de vapor com uma temperatura mais baixa.
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The furnace is very efficient and has uniform heating, which greatly improves our work efficiency.
4.9
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The furnace is easy to operate and can be controlled by a touch screen, which is very convenient.
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The furnace is very safe and reliable, with audible and visual alarm functions, which gives me a sense of security.
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The furnace has a wide range of applications and can be used for graphitization and sintering of various materials.
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The furnace is very durable and has a long service life, which saves us a lot of maintenance costs.
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The furnace is very economical and has a high cost performance, which is very suitable for our laboratory.
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The delivery speed of the furnace is very fast, and it can be delivered to our laboratory in a short time.
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The furnace is very valuable for money, and its price is very reasonable.
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Forno de Grafitação a Vácuo de Ultra-Alta Temperatura de Grafite
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