A pulverização catódica por magnetrão é utilizada por várias razões:
1. Maior taxa de deposição: A pulverização catódica com magnetrões é uma técnica de deposição em vácuo a alta velocidade, o que significa que pode depositar materiais em substratos a uma velocidade superior à de outros métodos. Isto é vantajoso para as indústrias que requerem uma produção em grande escala ou que necessitam de cumprir prazos apertados.
2. Ionização melhorada: A utilização de um campo magnético na pulverização catódica por magnetrão prende os electrões secundários perto do alvo. Estes electrões seguem trajectórias helicoidais em torno das linhas do campo magnético, aumentando o número de colisões ionizantes com o gás neutro próximo do alvo. Esta ionização melhorada conduz a uma taxa de pulverização mais elevada, permitindo uma deposição mais eficiente de átomos no substrato.
3. Funcionamento a baixa pressão: O campo magnético na pulverização catódica por magnetrão permite que o plasma seja mantido a pressões mais baixas. Isto tem múltiplas vantagens - reduz a incorporação de gás na película, resultando numa maior qualidade da película, e minimiza as perdas de energia nos átomos pulverizados. O funcionamento a baixa pressão também ajuda a evitar o sobreaquecimento ou danos no objeto a revestir.
4. Controlo da trajetória de transmissão do plasma: O campo magnético na pulverização catódica por magnetrão controla o percurso de transmissão do plasma. As linhas magnéticas formadas pelo campo magnético dirigem o plasma de uma extremidade do alvo para a outra. Este controlo da trajetória de transmissão do plasma permite uma deposição eficaz do revestimento e ajuda a manter a superfície de revestimento desejada.
5. Escalabilidade e versatilidade: A pulverização catódica por magnetrão é conhecida pela sua excecional escalabilidade em comparação com outros métodos de deposição física de vapor. Pode ser utilizada para várias aplicações e pode acomodar diferentes configurações geométricas de alvos, tais como formas circulares, rectangulares ou tubulares. Esta versatilidade faz com que a pulverização catódica com magnetrões seja uma técnica amplamente utilizada em indústrias como a microeletrónica e o vidro arquitetónico.
Em resumo, a pulverização catódica com magnetrões é utilizada porque oferece taxas de deposição mais elevadas, ionização melhorada, funcionamento a baixa pressão, controlo do percurso de transmissão do plasma e escalabilidade para diferentes aplicações. Estas vantagens fazem com que seja o método preferido para a deposição de revestimentos em substratos metálicos.
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