Quando se trata de pulverização catódica de metais, o gás árgon desempenha um papel crucial.
5 razões principais pelas quais o gás árgon é utilizado durante a pulverização catódica de metais
1. Natureza inerte
O árgon é um gás inerte, o que significa que não reage facilmente com outros elementos.
Isto é importante porque durante a pulverização catódica, os iões de gás recombinam-se com o material alvo para produzir a película depositada.
A utilização de um gás inerte como o árgon garante que a película não é contaminada por reacções com outros gases.
2. Elevada massa atómica
O árgon tem uma massa atómica elevada, o que permite um bombardeamento eficaz do material alvo.
Quando um campo magnético está presente, os electrões juntam-se no campo, gerando uma elevada densidade de electrões.
Isto aumenta a possibilidade de os electrões colidirem com o árgon, acelerando a formação de iões de árgon com carga positiva (Ar+).
Estes iões são atraídos para o alvo carregado negativamente, resultando num aumento das taxas de pulverização catódica e de deposição.
3. Custo-eficácia
O árgon tem um custo relativamente baixo e está amplamente disponível na forma pura.
Isto torna-o uma opção rentável para aplicações de pulverização catódica por magnetrão.
4. Peso atómico ideal
O peso atómico dos iões de gás utilizados na pulverização catódica deve ser semelhante ao das moléculas do alvo de pulverização catódica para otimizar a transferência de energia e de momento.
O árgon, com o seu peso atómico, é adequado para este fim.
5. Versatilidade
Embora o árgon seja o principal gás escolhido para a pulverização catódica, podem também ser utilizados ocasionalmente outros gases raros, como o crípton e o xénon, dependendo dos requisitos específicos da película fina que está a ser depositada.
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