A taxa de deposição física de vapor (PVD) não é explicitamente indicada nas referências fornecidas, mas pode ser inferida a partir da descrição do processo e da espessura típica dos revestimentos produzidos. A PVD é um processo que envolve a deposição de películas finas com uma espessura geralmente na gama de 1 a 10µm (micrómetros). A taxa de deposição depende da técnica específica de PVD utilizada, do material a depositar, do equipamento e das condições na câmara de deposição (como a temperatura, a pressão e a presença de gases reactivos).
Para determinar a taxa de PVD, normalmente considera-se o tempo necessário para atingir a espessura de película desejada. Por exemplo, se um processo de PVD estiver a depositar uma película a uma taxa de 1µm por hora e a espessura pretendida for de 5µm, então o processo demorará aproximadamente 5 horas a ser concluído. No entanto, sem dados específicos sobre as taxas de deposição para uma determinada técnica e material de PVD, não é possível fornecer uma taxa exacta.
Em resumo, a taxa de PVD é uma variável que depende de vários factores e é normalmente medida em termos da espessura da película depositada por unidade de tempo. A taxa real terá de ser determinada experimentalmente ou fornecida pelo fabricante do equipamento de PVD para uma aplicação específica.
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