A deposição física de vapor (PVD) é um processo utilizado para criar películas finas em vários materiais.
No entanto, a taxa de PVD não é um número fixo e pode variar significativamente.
Qual é a taxa de deposição física de vapor? (4 factores-chave a considerar)
1. O processo de PVD
A PVD envolve a deposição de películas finas com espessuras que normalmente variam de 1 a 10 micrómetros (µm).
2. Factores que afectam a taxa de PVD
A taxa de deposição depende de vários factores:
- A técnica específica de PVD utilizada.
- O material que está a ser depositado.
- Do equipamento utilizado.
- As condições na câmara de deposição, tais como a temperatura, a pressão e a presença de gases reactivos.
3. Cálculo da taxa de PVD
Para determinar a taxa de PVD, considere o tempo necessário para atingir a espessura de película desejada.
Por exemplo, se um processo de PVD depositar uma película a uma taxa de 1µm por hora, atingir uma espessura de 5µm demorará aproximadamente 5 horas.
4. Determinação experimental
Sem dados específicos sobre as taxas de deposição para uma determinada técnica e material de PVD, não é possível fornecer uma taxa exacta.
A taxa efectiva terá de ser determinada experimentalmente ou fornecida pelo fabricante do equipamento de PVD para uma aplicação específica.
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