A temperatura elevada para os processos CVD (Chemical Vapor Deposition) varia normalmente entre 600 e 1100°C. No entanto, no caso da CVD térmica, as superfícies devem ser mantidas a temperaturas entre 800 e 1000°C. Estas temperaturas elevadas são necessárias para facilitar as reacções químicas e a deposição do material desejado no substrato.
É importante notar que as altas temperaturas envolvidas nos processos de CVD podem ter efeitos térmicos significativos no material do substrato. Por exemplo, os aços podem ser aquecidos até à região da fase austenite, podendo ser necessário um tratamento térmico adicional para otimizar as propriedades do substrato.
Existem também variantes da CVD, como a CVD assistida por plasma (PACVD), que utilizam descargas eléctricas num gás de baixa pressão para acelerar a reação CVD. Isto pode baixar as temperaturas da reação em várias centenas de graus Celsius.
Em geral, os requisitos de temperatura para os processos CVD dependem da aplicação específica e da natureza do material depositado. É crucial manter a gama de temperaturas adequada para obter as propriedades de revestimento e a força de adesão desejadas.
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