A deposição química de vapor (CVD) é um processo utilizado para criar revestimentos sólidos de alta qualidade e elevado desempenho em substratos, utilizando vapores quimicamente reactivos.
O processo envolve a reação de um ou mais gases, conhecidos como gases precursores, numa câmara de reação para depositar um material sólido na superfície de um substrato.
Os gases precursores reagem entre si ou com a superfície do substrato para formar uma película sólida, cuja composição pode variar em função dos requisitos do projeto.
5 Fases Principais Explicadas
1. Difusão do gás de reação na superfície do substrato
Os gases precursores são introduzidos na câmara de reação e difundem-se na superfície do substrato.
2. Adsorção do gás de reação na superfície do substrato
Os gases precursores são adsorvidos na superfície do substrato, formando uma camada de espécies reactivas.
3. Reação química na superfície do substrato para formar um depósito sólido
As espécies reactivas na superfície do substrato sofrem uma reação química, formando um depósito sólido.
4. Libertação dos subprodutos resultantes da fase de vapor da superfície do substrato
Os subprodutos desta reação são libertados sob a forma de vapor e removidos da câmara.
5. Formação de uma película sólida
A película sólida é formada na superfície do substrato, cuja composição pode variar em função dos requisitos do projeto.
A CVD tem várias vantagens, incluindo a capacidade de depositar uma grande variedade de materiais, tais como películas metálicas, películas não metálicas, películas de ligas multicomponentes e camadas cerâmicas ou compostas.
O processo pode ser efectuado à pressão atmosférica ou a baixo vácuo, permitindo boas propriedades de envolvimento e revestimento uniforme de superfícies com formas complexas ou orifícios profundos ou finos na peça de trabalho.
Além disso, os revestimentos CVD têm elevada pureza, boa densidade, baixa tensão residual e boa cristalização.
Existem vários tipos de processos CVD, incluindo CVD de filamento quente, deposição de camada atómica (ALD) e deposição de vapor químico metalorgânico (MOCVD).
Estas técnicas oferecem uma vasta gama de capacidades de funcionalização de superfícies que excedem as de outras tecnologias de revestimento.
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