A deposição em química refere-se ao processo de criação de camadas finas ou espessas de uma substância, átomo a átomo ou molécula a molécula, numa superfície sólida. Este processo resulta num revestimento que altera as propriedades da superfície do substrato, dependendo da aplicação pretendida.
Deposição em fase vapor por processo químico (CVD) é um método específico utilizado para a deposição, caracterizado pela formação de uma película sólida sobre uma superfície aquecida devido a uma reação química na fase de vapor. Este método envolve várias etapas fundamentais:
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Evaporação de um composto volátil: A substância a ser depositada é primeiro evaporada do seu estado composto. Isto é normalmente conseguido através do aquecimento do composto até ao seu ponto de vaporização, convertendo-o num gás.
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Decomposição térmica ou reação química: O vapor sofre uma decomposição térmica em átomos e moléculas, ou reage com outros vapores, gases ou líquidos na superfície do substrato. Esta etapa é crucial para a formação da composição química desejada da película.
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Deposição de produtos de reação não voláteis: Os produtos das reacções químicas, que são não voláteis, depositam-se no substrato. Isto resulta na formação de uma película fina ou de um revestimento na superfície.
O processo de CVD requer geralmente condições específicas, incluindo pressões que vão desde alguns torr até acima da pressão atmosférica e temperaturas relativamente elevadas, muitas vezes à volta de 1000°C. Estas condições facilitam a decomposição e a reação eficientes dos compostos vaporizados.
A CVD é amplamente utilizada para produzir películas finas e revestimentos de alta qualidade. Envolve a utilização de reagentes gasosos, que são transportados para uma câmara de reação onde se decompõem numa superfície de substrato aquecida. Esta decomposição não só forma o revestimento desejado, como também produz subprodutos químicos, que são removidos da câmara de reação juntamente com quaisquer precursores voláteis que não tenham reagido. Os materiais normalmente depositados por CVD incluem silicetos, óxidos metálicos, sulfuretos e arsenietos.
Em resumo, a deposição em química, particularmente através de métodos como o CVD, é um processo crítico para a criação de películas finas e revestimentos que podem melhorar significativamente as propriedades e funcionalidades de vários materiais e superfícies.
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