Conhecimento Como é que a pressão do gás de pulverização afecta a qualidade da película e a velocidade de pulverização?
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Equipe técnica · Kintek Solution

Atualizada há 3 meses

Como é que a pressão do gás de pulverização afecta a qualidade da película e a velocidade de pulverização?

A pressão do gás de pulverização catódica tem um impacto significativo na qualidade da película e na taxa de pulverização catódica durante o processo de pulverização catódica. Eis os principais efeitos da pressão na qualidade da película e na velocidade de pulverização:

1. Qualidade da película:

- Pressão mais baixa: Uma pressão mais baixa na câmara de pulverização pode resultar numa película altamente densa com boa cristalinidade. Isto deve-se ao facto de, a pressões mais baixas, os átomos pulverizados terem um caminho livre médio mais longo, permitindo-lhes viajar mais longe antes de colidirem com outros átomos. Isto leva a uma estrutura de película mais uniforme e densa, com melhor cristalinidade.

- Pressão mais elevada: Por outro lado, uma pressão mais elevada pode aumentar as taxas de deposição. No entanto, se a pressão se tornar demasiado elevada, pode causar porosidade na microestrutura da película. O aumento da frequência de colisão a pressões mais elevadas pode também resultar numa orientação aleatória da película, afectando a cristalinidade. Por conseguinte, é importante encontrar uma gama de pressão óptima para obter a qualidade desejada da película.

2. Taxa de pulverização:

- Pressão mais baixa: Uma pressão mais baixa geralmente leva a taxas de pulverização mais baixas. Isto deve-se ao facto de, a baixas pressões, a densidade do gás de pulverização ser menor, resultando em menos colisões entre os iões do gás e o material alvo. Como resultado, são ejectados menos átomos do alvo, o que leva a uma taxa de pulverização mais baixa.

- Pressão mais elevada: Por outro lado, uma pressão mais elevada pode aumentar as taxas de deposição. O aumento da densidade do gás de pulverização a pressões mais elevadas leva a mais colisões com o material alvo, resultando numa taxa de pulverização mais elevada. No entanto, se a pressão se tornar demasiado elevada, pode causar envenenamento do alvo, em que o gás reativo na câmara afecta negativamente a superfície do alvo. Isto pode diminuir a taxa de crescimento da película fina e afetar a sua qualidade.

Em resumo, a pressão do gás de pulverização desempenha um papel crucial na determinação da qualidade da película e da taxa de pulverização. Encontrar o equilíbrio correto é importante para obter as propriedades desejadas da película, como a densidade, a cristalinidade e a uniformidade. É necessário gerir cuidadosamente a pressão na câmara de pulverização para otimizar o crescimento da película fina e evitar o envenenamento do alvo.

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