Forno de prensagem a quente sob vácuo
Forno de vácuo para prensagem a quente
Número do item : KT-VHP
O preço varia com base em especificações e personalizações
- Temperatura de trabalho
- 1500℃ / 2200℃
- Pressão de trabalho
- 10-400T
- Distância da prensa
- 100-200mm
- Pressão de vácuo
- 6x10-3Pa
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O forno de prensagem a quente a vácuo é um conjunto completo de equipamento que aquece e pressuriza materiais sob vácuo ou atmosfera. De acordo com diferentes materiais e temperaturas de aquecimento, os elementos de aquecimento podem ser aquecedor de grafite, aquecedor de molibdénio e aquecimento por indução, etc; e a pressurização unidirecional ou bidirecional pode ser utilizada para pressurização hidráulica.
Sob alta temperatura e alta pressão e vácuo ou atmosfera, as partículas sólidas da matéria-prima são ligadas umas às outras, os grãos crescem e os vazios (poros) e os limites dos grãos diminuem gradualmente; através da transferência de materiais, seu volume total encolhe e sua densidade aumenta, tornando-se um corpo sinterizado policristalino compacto com uma microestrutura específica, para que os materiais possam ser pressionados e formados.
A densidade, a dureza e outras propriedades mecânicas, electrónicas e térmicas dos materiais acabados podem ser significativamente melhoradas sob alta temperatura e pressão, bem como sob vácuo ou atmosfera
Aplicações
O forno de prensagem a quente com tubo de vácuo é uma ferramenta versátil e poderosa utilizada em várias indústrias para processos de alta temperatura. Este forno, capaz de funcionar em vácuo ou em atmosfera controlada, é particularmente adequado para aplicações que requerem um controlo preciso da temperatura e um ambiente limpo. As principais áreas de aplicação incluem:
- Crescimento de cristais: Ideal para a síntese e crescimento de vários tipos de cristais, que são cruciais nas indústrias de eletrónica e de semicondutores.
- Tratamento térmico: Utilizado para o processamento térmico de metais e ligas para melhorar as suas propriedades mecânicas, tais como dureza, ductilidade e resistência.
- Deposição de película fina: Essencial para a deposição de películas finas no fabrico de dispositivos electrónicos, células solares e revestimentos ópticos.
- Investigação em ciência dos materiais: Amplamente utilizado em laboratórios para investigação de novos materiais, incluindo cerâmicas, compósitos e ligas avançadas.
- Metalurgia: Ajuda na purificação e liga de metais, bem como na produção de materiais refractários.
- Fabrico de eletrónica: Crítico para processos como recozimento, sinterização e produção de componentes electrónicos.
- Indústria química: Utilizado para reacções químicas a alta temperatura e para a síntese de produtos químicos em atmosferas controladas.
- Fabrico de vidro: Útil na produção de vidros especiais e na modificação das propriedades do vidro através de tratamento térmico.
- Produção de materiais especiais: Envolvida na criação de materiais com propriedades únicas, como os utilizados na indústria aeroespacial e de defesa.
- Instituições académicas e de investigação: Um elemento básico em laboratórios universitários e centros de investigação para investigação e desenvolvimento de materiais avançados.
Detalhes e peças
- Estrutura de concha dupla com revestimento arrefecido a água, a concha interior é feita de aço inoxidável e foi finamente polida. As carcaças são de aço carbono de alta qualidade com tratamento anti-ferrugem ou aço inoxidável com jato de areia.
- O elemento de aquecimento adopta grafite ou fio de molibdénio. O aquecimento é dividido em aquecimento monofásico ou trifásico. A conceção racional do elemento de aquecimento ajuda a melhorar a uniformidade da temperatura na cavidade.
- O forno pode ser facilmente operado através do sistema de controlo elétrico. A temperatura e a pressão são controladas por PLC analógico, ou o processo de sinterização é completado automaticamente através de um controlador programável de temperatura e pressão. O sistema de controlo tem funções de alarme e proteção, tais como corte de água, excesso de temperatura e excesso de corrente.
Princípio de funcionamento
O forno de prensagem a quente com tubo de vácuo funciona através do aquecimento e pressurização de materiais sob vácuo ou atmosfera. Utiliza elementos de aquecimento como aquecedores de grafite ou molibdénio e pode aplicar pressurização unidirecional ou bidirecional. Este processo une as partículas da matéria-prima, reduz os espaços vazios e aumenta a densidade, formando um corpo sinterizado compacto. O forno foi concebido para várias indústrias, garantindo um tratamento térmico preciso e a sinterização do material.
Vantagens
O forno de prensagem a quente com tubo de vácuo oferece uma infinidade de vantagens que o tornam uma escolha superior para vários processos e aplicações de tratamento térmico. Aqui estão alguns dos principais benefícios:
- Versatilidade nos processos de tratamento térmico: O forno suporta uma vasta gama de processos de tratamento térmico, tornando-o adequado para vários materiais e indústrias. Esta versatilidade assegura que pode satisfazer diversas necessidades no processamento de materiais.
- Ciclos de alta velocidade com têmpera a gás de alta pressão: O forno foi concebido para facilitar os ciclos de alta velocidade, que são essenciais para uma produção eficiente. A caraterística de arrefecimento por gás de alta pressão melhora o processo de arrefecimento, conduzindo a tempos de ciclo mais rápidos e a uma maior produtividade.
- Eficiência energética e de recursos: Com um baixo consumo de energia e gases de processo, o forno é amigo do ambiente e económico. Esta eficiência não só reduz os custos operacionais como também minimiza a pegada ambiental.
- Amigo do ambiente com baixas emissões: O design do forno garante baixas emissões de gases de processo, tornando-o uma escolha ecológica para as indústrias que procuram minimizar o seu impacto ambiental.
- Design simples e modular: O design simples do forno permite uma fácil instalação e manutenção. A sua natureza modular significa que pode ser adaptado e ajustado a tarefas específicas e às condições da fábrica, garantindo um desempenho ótimo.
- Qualidade garantida e resultados de processo repetíveis: O forno foi concebido para proporcionar uma qualidade garantida e resultados de processo repetíveis, o que é crucial para as indústrias onde a precisão e a consistência são fundamentais.
- Manutenção Preditiva: As características avançadas, como a manutenção preditiva, ajudam a identificar potenciais problemas antes que estes se agravem, garantindo um tempo de inatividade mínimo e prolongando a vida útil do equipamento.
Introdução à estrutura
Este forno elétrico tem dois tipos de aquecimento por grafite e aquecimento por fio de resistência, que são adequados para sinterizar pó metálico, materiais inorgânicos não metálicos, etc. sob vácuo e prensagem a quente a temperatura hh; naturalmente, a sinterização por prensagem a quente também pode ser realizada sob atmosfera protetora. Desta forma, a densificação do material pode ser concluída, a deformação pode ser evitada e o tamanho do grão do nanopó pode ser suprimido.
| Especificação |
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|---|---|
| Invólucro do forno |
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| Lado do forno |
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| O elemento de aquecimento |
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| A camada de isolamento |
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| O sistema de vácuo |
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| O circuito principal do sistema de controlo elétrico |
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Características
- Estrutura da câmara de vácuo em aço inoxidável SUS304 de camada dupla, método de arrefecimento por circulação de água fria do revestimento para manter a temperatura da superfície do forno
- Estrutura de suporte de coluna dupla, sistema de prensa hidráulica estável, pressão pode ser controlo manual ou controlo automático, regulação e manutenção precisas da pressão
- Materiais de isolamento térmico avançados com baixa condutividade térmica e bom efeito de isolamento térmico, que podem efetivamente isolar o calor e reduzir o consumo de energia
- A gama de temperaturas é ampla. Pode ser selecionada uma variedade de elementos de aquecimento, tais como grafite, molibdénio, tungsténio, aquecimento por indução, etc. A temperatura pode chegar a 2800 ℃ em uma atmosfera protetora adequada, que pode se adaptar à sinterização por prensagem a quente de diferentes materiais;
- Configuração diversificada do sistema de vácuo, diferentes graus de vácuo são seleccionados de acordo com o processo;
- É fornecido um sistema de carga e descarga, que pode ser usado para sinterização por prensagem a quente em ambiente de vácuo, atmosfera inerte ou atmosfera redutora;
- Configuração humanizada, tanto a operação manual como a operação inteligente podem ser efectuadas;
- Um forno para múltiplos fins pode ser utilizado como um simples forno de sinterização em vácuo ou atmosfera;
- Diversos tipos funcionais opcionais disponíveis, descarga superior vertical, descarga lateral vertical, pressurização unidirecional, pressurização bidirecional, etc.
Especificações técnicas
| Temperatura de trabalho | 1500℃ / 2200℃ |
|---|---|
| Elemento de aquecimento | Molibdénio/Grafite |
| Pressão de trabalho | 10-400T |
| Distância da prensa | 100-200mm |
| Pressão de vácuo | 6x10-3Pa |
| Gama de diâmetros da área de trabalho efectiva | 90-600mm |
| Gama de diâmetros da área de trabalho efectiva | 120-600mm |
Avisos
A segurança do operador é a questão mais importante! Por favor, opere o equipamento com cautelas. Trabalhar com gases inflamáveis, explosivos ou tóxicos é muito perigoso, os operadores devem tomar todas as precauções necessárias antes de iniciar o equipamento. Trabalhar com pressão positiva dentro dos reactores ou câmaras é perigoso, o operador deve seguir rigorosamente os procedimentos de segurança. Extra também deve ser tido cuidado ao operar com materiais reativos ao ar, especialmente sob vácuo. Uma fuga pode aspirar ar para dentro do aparelho e provocar ocorrer uma reação violenta.
Desenhado para si
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FAQ
Para que é utilizado um forno de vácuo?
O que é o forno CVD?
A deposição química de vapor (CVD) é uma tecnologia que utiliza várias fontes de energia, como aquecimento, excitação de plasma ou radiação de luz para reagir quimicamente substâncias químicas gasosas ou de vapor na fase gasosa ou na interface gás-sólido para formar depósitos sólidos no reator por meio de reação química. simplificando, duas ou mais matérias-primas gasosas são introduzidas em uma câmara de reação e, em seguida, reagem entre si para formar um novo material e depositá-lo na superfície do substrato.
O forno CVD é um sistema de forno combinado com unidade de forno tubular de alta temperatura, unidade de controle de gases e unidade de vácuo, é amplamente utilizado para experimentos e produção de preparação de material composto, processo microeletrônico, optoeletrônico semicondutor, utilização de energia solar, comunicação de fibra ótica, tecnologia de supercondutor, campo de revestimento protetor.
O que são os fornos dentários?
O que é uma prensa de laboratório?
Qual é o objetivo de um forno de prensagem a quente por vácuo?
Qual é o processo de um forno de vácuo?
Como é que o forno CVD funciona?
O sistema de forno CVD consiste em uma unidade de forno de tubo de alta temperatura, unidade de controle preciso da fonte de gás reagente, estação de bomba de vácuo e peças de montagem correspondentes.
A bomba de vácuo é para remover o ar do tubo de reação e garantir que não haja gases indesejados dentro do tubo de reação, depois que o forno de tubo aquecerá o tubo de reação a uma temperatura alvo, então a unidade de controle preciso da fonte de gás reagente pode introduzir gases diferentes com uma proporção definida no tubo do forno para a reação química, a deposição de vapor químico será formada no forno CVD.
O que é o processo de fusão por arco a vácuo?
Quais são as aplicações das prensas de pellets?
Quais são os diferentes tipos de fornos para medicina dentária?
Qual é o objetivo de uma prensa hidráulica no laboratório?
O que é o método PECVD?
Quais são as vantagens de um forno de prensagem a quente a vácuo?
Que gás é utilizado num forno de vácuo?
Que gás é utilizado no processo CVD?
Existem tremendas fontes de gás que podem ser usadas no processo CVD, as reações químicas comuns do CVD incluem pirólise, fotólise, redução, oxidação, redox, de modo que os gases envolvidos nessas reações químicas podem ser usados no processo CVD.
Tomamos o crescimento de grafeno CVD como exemplo, os gases usados no processo CVD serão CH4, H2, O2 e N2.
O que é o forno VAR (Vacuum Arc Remelting)?
Como é que uma prensa de pellets funciona?
Qual é a temperatura de um forno dentário?
Quais são os diferentes tipos de prensas de laboratório?
Para que é utilizado o PECVD?
Como é que um forno de prensagem a quente a vácuo funciona?
Qual é o elemento de aquecimento utilizado num forno de vácuo?
Qual é a vantagem do sistema CVD?
- Pode ser produzida uma vasta gama de películas, películas metálicas, películas não metálicas e películas de ligas multicomponentes, conforme necessário. Ao mesmo tempo, pode preparar cristais de alta qualidade que são difíceis de obter por outros métodos, como GaN, BP, etc.
- A velocidade de formação da película é rápida, geralmente vários microns por minuto ou mesmo centenas de microns por minuto. É possível depositar simultaneamente grandes quantidades de revestimentos com composição uniforme, o que é incomparável com outros métodos de preparação de filmes, como epitaxia de fase líquida (LPE) e epitaxia de feixe molecular (MBE).
- As condições de trabalho são realizadas sob pressão normal ou condições de baixo vácuo, de modo que o revestimento tem boa difração, e as peças de trabalho com formas complexas podem ser uniformemente revestidas, o que é muito superior ao PVD.
- Devido à difusão mútua do gás de reação, do produto da reação e do substrato, pode obter-se um revestimento com boa força de adesão, o que é crucial para a preparação de películas reforçadas à superfície, tais como películas resistentes ao desgaste e anti-corrosão.
- Algumas películas crescem a uma temperatura muito inferior ao ponto de fusão do material da película. Sob a condição de crescimento a baixa temperatura, o gás de reação e a parede do reator e as impurezas contidas neles quase não reagem, de modo que um filme com alta pureza e boa cristalinidade pode ser obtido.
- A deposição química de vapor pode obter uma superfície de deposição lisa. Isso ocorre porque, em comparação com o LPE, a deposição de vapor químico (CVD) é realizada sob alta saturação, com alta taxa de nucleação, alta densidade de nucleação e distribuição uniforme em todo o plano, resultando em uma superfície lisa macroscópica. Ao mesmo tempo, na deposição de vapor químico, o caminho livre médio das moléculas (átomos) é muito maior do que o LPE, de modo que a distribuição espacial das moléculas é mais uniforme, o que favorece a formação de uma superfície de deposição lisa.
- Baixos danos por radiação, que é uma condição necessária para a fabricação de semicondutores de óxido metálico (MOS) e outros dispositivos
Como é que o forno de fusão por arco de vácuo funciona?
Quais são as vantagens de utilizar uma prensa de pellets?
Qual é a utilização do forno de porcelana?
Quais são as vantagens do PECVD?
Quais são as aplicações comuns dos fornos de prensagem a quente a vácuo?
O que significa PECVD?
O PECVD é uma tecnologia que utiliza o plasma para ativar o gás de reação, promover a reação química na superfície do substrato ou no espaço próximo da superfície e gerar uma película sólida. O princípio básico da tecnologia de deposição de vapor químico de plasma é que, sob a ação do campo elétrico de RF ou DC, o gás de origem é ionizado para formar um plasma, o plasma de baixa temperatura é usado como fonte de energia, uma quantidade apropriada de gás de reação é introduzida e a descarga de plasma é usada para ativar o gás de reação e realizar a deposição de vapor químico.
De acordo com o método de geração de plasma, ele pode ser dividido em plasma de RF, plasma de DC e plasma de micro-ondas CVD, etc ...
Quais são as aplicações dos fornos de fusão por arco em vácuo?
Que factores devem ser considerados na seleção de uma prensa de pellets?
Qual é a diferença entre ALD e PECVD?
Que factores devem ser considerados na seleção de um forno de prensagem a quente por vácuo?
Qual é a diferença entre CVD e PECVD?
A diferença entre o PECVD e a tecnologia CVD tradicional é que o plasma contém um grande número de electrões de alta energia, que podem fornecer a energia de ativação necessária no processo de deposição de vapor químico, alterando assim o modo de fornecimento de energia do sistema de reação. Uma vez que a temperatura dos electrões no plasma é tão elevada como 10000K, a colisão entre os electrões e as moléculas de gás pode promover a quebra de ligações químicas e a recombinação das moléculas de gás de reação para gerar grupos químicos mais activos, enquanto todo o sistema de reação mantém uma temperatura mais baixa.
Assim, em comparação com o processo CVD, o PECVD pode realizar o mesmo processo de deposição química de vapor com uma temperatura mais baixa.
Quais são as vantagens da utilização de fornos de fusão por arco a vácuo?
Qual é a diferença entre PECVD e pulverização catódica?
Que precauções de segurança devem ser seguidas quando se utiliza um forno de fusão por arco sob vácuo?
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Revelando os fornos de grafite a vácuo: Desempenho, aplicações e percepções de especialistas
Mergulhe no mundo dos fornos de grafite de vácuo, explorando o seu desempenho excecional, diversas aplicações e considerações cruciais. Os nossos conhecimentos especializados permitem-lhe tomar decisões informadas para as necessidades de tratamento de materiais a alta temperatura do seu laboratório.