O LPCVD (deposição química em fase vapor a baixa pressão) é utilizado principalmente para depositar películas finas de silício e outros materiais em substratos, cruciais para o fabrico de dispositivos semicondutores. Este método oferece várias vantagens em relação a outras técnicas de deposição, tornando-o a escolha preferida para várias aplicações de IC.
Uniformidade e qualidade das películas:
A LPCVD é conhecida por produzir películas mais uniformes, com menos defeitos e que apresentam uma melhor cobertura de etapas em comparação com as películas cultivadas termicamente. A uniformidade é fundamental para garantir propriedades eléctricas consistentes em todo o dispositivo, o que é essencial para o funcionamento fiável dos dispositivos semicondutores. A elevada cobertura de degraus ajuda a cobrir topografias complexas, o que é frequentemente o caso em designs de semicondutores modernos com rácios de aspeto elevados.Afinação das propriedades da película:
Uma das vantagens significativas da LPCVD é a capacidade de ajustar as propriedades das películas depositadas. Esta afinação pode ser conseguida através do ajuste dos parâmetros do processo, como a temperatura e a composição do gás. Por exemplo, são utilizadas temperaturas de processo mais elevadas para o óxido de silício LPCVD para obter propriedades específicas, ao passo que podem ser utilizadas temperaturas mais baixas para outros materiais para otimizar as suas características. Esta flexibilidade permite que os fabricantes adaptem as películas aos requisitos específicos dos dispositivos, melhorando a funcionalidade e o desempenho dos dispositivos semicondutores.
Versatilidade nas aplicações:
A LPCVD é versátil e pode ser utilizada para criar uma vasta gama de materiais e nanoestruturas complexas. Esta versatilidade é apoiada pela capacidade de controlar finamente o processo de deposição, permitindo a criação de materiais com propriedades específicas. Por exemplo, o LPCVD pode ser utilizado para depositar materiais para dispositivos biomédicos, polímeros de alta qualidade e várias outras aplicações em que é essencial um controlo preciso das propriedades dos materiais.Deposição de película e plasma de alta qualidade:
A utilização de uma bobina indutiva nos sistemas LPCVD para gerar plasma resulta em películas de maior qualidade. Esta técnica, apesar de produzir películas mais finas, garante que as películas têm menos defeitos e melhores propriedades. O plasma de alta qualidade melhora o processo de deposição, tornando-o mais eficiente e eficaz.
Controlo de temperatura e gravação de material:
