A espessura das películas finas por deposição física de vapor (PVD) varia normalmente entre alguns nanómetros e cerca de 100 micrómetros, sendo comum a gama ser inferior a 1000 nanómetros (1 mícron). Esta espessura é crucial para obter propriedades ópticas, eléctricas e mecânicas específicas que diferem das do material a granel.
Gama de espessuras:
A espessura das películas finas em PVD pode variar significativamente, começando ao nível atómico, onde são depositados átomos ou moléculas individuais. Isto pode resultar em películas tão finas como alguns nanómetros. No extremo superior, a espessura pode atingir 100 micrómetros, embora em muitas aplicações as películas sejam muito mais finas, frequentemente inferiores a 1 mícron. Esta gama permite um controlo preciso das propriedades da película, como a transparência, a condutividade e a dureza.Métodos de deposição:
A deposição física de vapor envolve a deposição do vapor do material num ambiente de baixa pressão. As técnicas de PVD incluem a pulverização catódica, a evaporação térmica, a evaporação por feixe de electrões e a deposição por laser pulsado, entre outras. Cada método tem as suas vantagens específicas e é escolhido com base nas propriedades desejadas da película final. Por exemplo, a evaporação por feixe de electrões é frequentemente utilizada para depositar películas de elevada pureza, enquanto a pulverização catódica pode proporcionar uma excelente aderência e uniformidade.
Importância da espessura:
A espessura da película é fundamental, uma vez que influencia diretamente as propriedades da película. Por exemplo, no fabrico de semicondutores, são necessárias películas muito finas para garantir uma condutividade eléctrica eficiente sem adicionar volume ou peso significativos. Em aplicações ópticas, as películas finas podem ser concebidas para refletir ou transmitir comprimentos de onda específicos de luz, o que só é possível com um controlo preciso da espessura.
Visualização da espessura:
