Conhecimento Qual é a temperatura de evaporação do feixe de luz eletrónico? (4 pontos-chave explicados)
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Atualizada há 2 meses

Qual é a temperatura de evaporação do feixe de luz eletrónico? (4 pontos-chave explicados)

A evaporação por feixe de electrões é um processo que envolve o aquecimento de materiais de origem até ao ponto em que estes se evaporam.

Normalmente, isto requer temperaturas que excedem o ponto de fusão do material.

Por exemplo, os metais refractários como o tungsténio e o tântalo, que têm pontos de fusão elevados, são normalmente evaporados utilizando a evaporação por feixe eletrónico.

O próprio feixe de electrões é aquecido a cerca de 3000 °C.

Quando atinge o material de origem, a energia cinética dos electrões é convertida em energia térmica, aquecendo o material até à evaporação.

Qual é a temperatura de evaporação do feixe de electrões? (4 pontos-chave explicados)

Qual é a temperatura de evaporação do feixe de luz eletrónico? (4 pontos-chave explicados)

1. Aquecimento do material de origem

O processo envolve o aquecimento do material de origem até o ponto em que ele evapora.

Isso normalmente requer temperaturas que excedem o ponto de fusão do material.

2. Aquecimento do feixe de electrões

O próprio feixe de electrões é aquecido a cerca de 3000 °C.

Quando atinge o material de origem, a energia cinética dos electrões é convertida em energia térmica, aquecendo o material até à evaporação.

3. Aquecimento localizado

No processo de evaporação por feixe eletrónico, é utilizado um feixe de electrões focalizado para aquecer e evaporar metais.

Os electrões são normalmente aquecidos a cerca de 3000 °C, e uma fonte de tensão contínua de 100 kV acelera-os em direção ao material alvo.

Este método é particularmente útil para a deposição de materiais com elevados pontos de fusão, uma vez que o aquecimento é muito localizado perto do local de bombardeamento do feixe na superfície da fonte.

Este aquecimento localizado evita a contaminação do cadinho.

4. Ambiente de alto vácuo

O processo requer um ambiente de alto vácuo, normalmente com uma pressão inferior a 10^-5 Torr, para minimizar as colisões dos átomos da fonte com os átomos do gás de fundo.

Este requisito de vácuo elevado é necessário para taxas de deposição razoáveis, em que a pressão de vapor deve ser de aproximadamente 10 mTorr.

Isso torna a evaporação por feixe eletrônico adequada para materiais que não podem ser evaporados usando a evaporação térmica devido às suas altas temperaturas de vaporização.

Por exemplo, a evaporação da platina exigiria uma temperatura de cerca de 2000 °C, que está além da faixa operacional da evaporação térmica, mas é viável com a evaporação por feixe eletrônico.

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