A pulverização catódica é uma técnica de deposição de película fina muito utilizada, mas tem várias desvantagens que podem afetar a sua eficiência e rentabilidade.
10 pontos-chave a considerar
1. Altas despesas de capital
A pulverização catódica requer um investimento inicial significativo devido à complexidade do equipamento e à necessidade de sistemas de vácuo sofisticados.
2. Baixas taxas de deposição para certos materiais
Alguns materiais, como o SiO2, têm taxas de deposição relativamente baixas quando se utilizam técnicas de pulverização catódica.
3. Degradação dos materiais devido ao bombardeamento iónico
Certos materiais, particularmente os sólidos orgânicos, são susceptíveis de se degradarem durante o processo de pulverização catódica devido ao bombardeamento iónico de alta energia.
4. Maior tendência para a introdução de impurezas
A pulverização catódica funciona sob uma gama de vácuo mais baixa em comparação com os métodos de evaporação, o que pode levar a uma maior incidência de impurezas nas películas depositadas.
5. Distribuição Não-Uniforme do Fluxo de Deposição
Em muitas configurações de pulverização catódica, a distribuição do fluxo de deposição não é uniforme, o que pode resultar em películas de espessura não uniforme.
6. Alvos caros e uso ineficiente de material
Os alvos de pulverização catódica são muitas vezes caros e o processo pode ser ineficiente em termos de utilização de material.
7. Conversão de energia em calor
A maior parte da energia incidente no alvo durante a pulverização catódica é convertida em calor, que deve ser gerido de forma eficaz para evitar danos no equipamento e no substrato.
8. Ativação de contaminantes gasosos
Em alguns casos, os contaminantes gasosos no ambiente de pulverização catódica podem ser activados pelo plasma, levando a um aumento da contaminação da película.
9. Controlo complexo da composição do gás na pulverização reactiva
Na pulverização reactiva, a composição do gás deve ser cuidadosamente controlada para evitar que o alvo de pulverização seja envenenado.
10. Desafios em combinação com Lift-Off para estruturação
O processo de pulverização catódica é mais difícil de combinar com as técnicas de levantamento para estruturar a película devido à natureza difusa das partículas pulverizadas.
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