A Deposição Física de Vapor (PVD) é um processo crucial em várias indústrias, oferecendo dois tipos principais: oclusivo e funcional.
Quais são os dois tipos de PVD? (Explicado em 4 pontos-chave)
1. PVD oclusiva
A PVD oclusiva envolve a criação de uma camada muito fina de material através do processo de deposição física de vapor.
Esta técnica é vasta e engloba vários métodos específicos.
O principal objetivo da PVD oclusiva é criar uma barreira ou vedação na superfície de um material.
Este tipo de revestimento por PVD é normalmente utilizado em aplicações que exigem resistência à corrosão, resistência ao desgaste ou resistência química.
2. PVD funcional
A PVD funcional também envolve a criação de uma camada fina de material através da deposição física de vapor.
No entanto, o objetivo da PVD funcional é melhorar a funcionalidade ou o desempenho do material.
Tal pode incluir a melhoria da dureza, da lubricidade ou das propriedades ópticas.
Os revestimentos PVD funcionais são normalmente utilizados em indústrias como a automóvel, a aeroespacial e a eletrónica.
3. PVD vs. CVD
É importante notar que a PVD e a CVD (deposição química de vapor) são dois métodos diferentes de aplicação de revestimentos à superfície de um material.
A PVD baseia-se na deposição física de vapor, enquanto a CVD se baseia na deposição química de vapor.
Os materiais que podem depositar, as condições em que são aplicados e as propriedades dos revestimentos que produzem podem ser diferentes.
4. Aplicações e vantagens
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