Conhecimento A pulverização catódica é uma deposição?
Avatar do autor

Equipe técnica · Kintek Solution

Atualizada há 1 semana

A pulverização catódica é uma deposição?

A pulverização catódica é de facto um processo de deposição, especificamente um tipo de deposição física de vapor (PVD). Este método envolve a ejeção de material de uma fonte "alvo", que depois se deposita num "substrato". O processo é caracterizado pela ejeção física de átomos da superfície do alvo devido à transferência de momento de uma partícula de bombardeamento energético, normalmente um ião gasoso de um plasma ou de uma pistola de iões.

Explicação pormenorizada:

  1. Mecanismo de Sputtering:

  2. A pulverização catódica funciona através da utilização de um plasma gasoso para desalojar átomos da superfície de um material alvo sólido. O alvo é normalmente uma placa do material que se pretende revestir em substratos. O processo começa com a introdução de um gás controlado, normalmente árgon, numa câmara de vácuo. A energia eléctrica é então aplicada a um cátodo, criando um plasma auto-sustentado. Os iões do plasma colidem com o alvo, fazendo com que os átomos sejam ejectados devido à transferência de momento.Deposição em substratos:

  3. Os átomos ejectados do alvo viajam através do vácuo ou do ambiente gasoso de baixa pressão e depositam-se no substrato. Esta deposição pode ocorrer em diferentes condições de pressão: no vácuo ou num gás de baixa pressão (<5 mTorr), as partículas pulverizadas não sofrem colisões em fase gasosa antes de atingirem o substrato. Em alternativa, a pressões de gás mais elevadas (5-15 mTorr), as partículas energéticas podem ser termalizadas por colisões em fase gasosa antes da deposição.

  4. Características dos filmes pulverizados:

As películas pulverizadas são conhecidas pela sua excelente uniformidade, densidade, pureza e aderência. Este método permite a produção de ligas com uma composição precisa através de pulverização convencional ou a criação de compostos como óxidos e nitretos através de pulverização reactiva. A energia cinética dos átomos projectados por pulverização catódica é normalmente mais elevada do que a dos materiais evaporados, aumentando a sua adesão ao substrato.

Vantagens da pulverização catódica:

Produtos relacionados

Máquina de revestimento PECVD de deposição por evaporação reforçada por plasma

Máquina de revestimento PECVD de deposição por evaporação reforçada por plasma

Actualize o seu processo de revestimento com equipamento de revestimento PECVD. Ideal para LED, semicondutores de potência, MEMS e muito mais. Deposita películas sólidas de alta qualidade a baixas temperaturas.

Forno de sinterização por plasma de faísca Forno SPS

Forno de sinterização por plasma de faísca Forno SPS

Descubra as vantagens dos fornos de sinterização por plasma de faísca para a preparação rápida e a baixa temperatura de materiais. Aquecimento uniforme, baixo custo e amigo do ambiente.

Alvo de pulverização catódica de carboneto de boro (BC) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Alvo de pulverização catódica de carboneto de boro (BC) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Obtenha materiais de carboneto de boro de alta qualidade a preços razoáveis para as suas necessidades laboratoriais. Personalizamos materiais BC de diferentes purezas, formas e tamanhos, incluindo alvos de pulverização catódica, revestimentos, pós e muito mais.

Sistema RF PECVD Deposição de vapor químico enriquecido com plasma e radiofrequência

Sistema RF PECVD Deposição de vapor químico enriquecido com plasma e radiofrequência

RF-PECVD é um acrónimo de "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". Deposita DLC (película de carbono tipo diamante) em substratos de germânio e silício. É utilizado na gama de comprimentos de onda infravermelhos de 3-12um.

Equipamento HFCVD de revestimento de nano-diamante de matriz de desenho

Equipamento HFCVD de revestimento de nano-diamante de matriz de desenho

O molde de trefilagem de revestimento composto de nano-diamante utiliza carboneto cimentado (WC-Co) como substrato e utiliza o método da fase de vapor químico (abreviadamente, método CVD) para revestir o revestimento composto de diamante convencional e nano-diamante na superfície do orifício interior do molde.

Sistema de fiação por indução de fusão por vácuo Forno de fusão a arco

Sistema de fiação por indução de fusão por vácuo Forno de fusão a arco

Desenvolva materiais metaestáveis com facilidade utilizando o nosso sistema de fiação por fusão em vácuo. Ideal para investigação e trabalho experimental com materiais amorfos e microcristalinos. Encomende agora para obter resultados efectivos.

Alvo de pulverização catódica de vanádio (V) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Alvo de pulverização catódica de vanádio (V) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Procura materiais de vanádio (V) de alta qualidade para o seu laboratório? Oferecemos uma vasta gama de opções personalizáveis para satisfazer as suas necessidades específicas, incluindo alvos de pulverização catódica, pós e muito mais. Contacte-nos hoje para obter preços competitivos.

Máquina de diamante MPCVD com ressonador de jarro de sino para laboratório e crescimento de diamante

Máquina de diamante MPCVD com ressonador de jarro de sino para laboratório e crescimento de diamante

Obtenha películas de diamante de alta qualidade com a nossa máquina MPCVD com ressonador de jarro de sino, concebida para laboratório e crescimento de diamantes. Descubra como a Deposição de Vapor Químico por Plasma de Micro-ondas funciona para o crescimento de diamantes usando gás carbónico e plasma.

Cadinho de feixe de electrões

Cadinho de feixe de electrões

No contexto da evaporação por feixe de canhão de electrões, um cadinho é um recipiente ou suporte de fonte utilizado para conter e evaporar o material a depositar num substrato.

Máquina de diamante MPCVD com ressonador cilíndrico para crescimento de diamante em laboratório

Máquina de diamante MPCVD com ressonador cilíndrico para crescimento de diamante em laboratório

Saiba mais sobre a Máquina MPCVD com Ressonador Cilíndrico, o método de deposição de vapor químico por plasma de micro-ondas utilizado para o crescimento de pedras preciosas e películas de diamante nas indústrias de joalharia e de semicondutores. Descubra as suas vantagens económicas em relação aos métodos HPHT tradicionais.

Alvo de pulverização catódica de platina (Pt) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Alvo de pulverização catódica de platina (Pt) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Alvos de pulverização catódica de platina (Pt) de elevada pureza, pós, fios, blocos e grânulos a preços acessíveis. Adaptados às suas necessidades específicas com diversos tamanhos e formas disponíveis para várias aplicações.

Alvo de pulverização catódica de paládio (Pd) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Alvo de pulverização catódica de paládio (Pd) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Procura materiais de paládio a preços acessíveis para o seu laboratório? Oferecemos soluções personalizadas com diferentes purezas, formas e tamanhos - desde alvos de pulverização catódica a pós nanométricos e pós para impressão 3D. Consulte a nossa gama agora!

Alvo de pulverização catódica de chumbo de elevada pureza (Pb) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Alvo de pulverização catódica de chumbo de elevada pureza (Pb) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Está à procura de materiais de chumbo (Pb) de alta qualidade para as suas necessidades laboratoriais? Não procure mais do que a nossa seleção especializada de opções personalizáveis, incluindo alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento e muito mais. Contacte-nos hoje para obter preços competitivos!

Gadolínio de alta pureza (Gd) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Gadolínio de alta pureza (Gd) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Encontre materiais de gadolínio (Gd) de alta qualidade para utilização laboratorial a preços acessíveis. Os nossos especialistas adaptam os materiais às suas necessidades específicas com uma gama de tamanhos e formas disponíveis. Compre alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento e muito mais hoje.

Alvo de pulverização catódica de disprósio (Dy) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Alvo de pulverização catódica de disprósio (Dy) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Está à procura de materiais de disprósio (Dy) de alta qualidade para o seu laboratório? Os nossos produtos personalizados estão disponíveis em diferentes graus de pureza, formas e tamanhos para satisfazer as suas necessidades específicas. Explore a nossa gama de alvos de pulverização catódica, pós, lingotes e muito mais a preços razoáveis.

Alvo de pulverização catódica de óxido de vanádio de elevada pureza (V2O3) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Alvo de pulverização catódica de óxido de vanádio de elevada pureza (V2O3) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Compre materiais de óxido de vanádio (V2O3) para o seu laboratório a preços razoáveis. Oferecemos soluções personalizadas de diferentes purezas, formas e tamanhos para satisfazer os seus requisitos exclusivos. Navegue pela nossa seleção de alvos de pulverização catódica, pós, folhas e muito mais.


Deixe sua mensagem