Compreender a diferença entre magnetrões equilibrados e desequilibrados é crucial para otimizar o processo de pulverização catódica e obter as propriedades desejadas da película.
4 Principais diferenças entre magnetrões equilibrados e não equilibrados
1. Configuração do campo magnético
Magnetrão equilibrado: O campo magnético é distribuído simetricamente em torno do alvo.
Magnetrão não equilibrado: O campo magnético é mais forte num dos lados, normalmente o lado exterior.
2. Impacto no processo de pulverização catódica
Magnetrão equilibrado: Cria uma descarga de plasma estável que confina os electrões e iões perto da superfície do alvo.
Magnetrão desequilibrado: Faz com que as linhas do campo magnético se estendam mais para dentro da câmara de vácuo, aumentando a densidade do plasma perto do substrato.
3. Erosão do alvo e taxa de deposição
Magnetrão equilibrado: Resulta num padrão de erosão uniforme no alvo e numa taxa de deposição consistente.
Magnetrão desequilibrado: Conduz a um maior fluxo de iões e energia no substrato, aumentando o bombardeamento de iões e melhorando as propriedades da película.
4. Adequação a diferentes aplicações
Magnetrão equilibrado: Adequado para a deposição uniforme de películas.
Magnetrão desequilibrado: Ideal para geometrias complexas e sistemas maiores, mantendo elevadas taxas de deposição e qualidade da película a distâncias maiores entre o alvo e o substrato.
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