Conhecimento O que é o processo de deposição de feixes?
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Equipe técnica · Kintek Solution

Atualizada há 2 semanas

O que é o processo de deposição de feixes?

O processo de deposição por feixe envolve a interação de um feixe de partículas, tais como iões ou electrões, com um material alvo para depositar películas finas num substrato. Este processo é crucial para várias aplicações, incluindo a criação de revestimentos densos e de alta qualidade com uma adesão superior e menos defeitos. Existem vários métodos principais de deposição por feixe, cada um com características e vantagens únicas.

Deposição por feixe de iões:

A deposição por feixe de iões (IBD) envolve a utilização de um feixe de iões altamente colimado para interagir com um material alvo, conduzindo a processos como a implantação, a pulverização catódica e a dispersão. Na deposição por pulverização catódica com feixe de iões, os iões do feixe atingem um alvo próximo do substrato, fazendo com que as partículas do material alvo sejam ejectadas e depositadas no substrato. Este método oferece flexibilidade e precisão no controlo dos parâmetros de deposição, resultando em depósitos de alta qualidade com um impacto mínimo na amostra.Deposição por feixe de electrões:

A deposição por feixe de electrões (E-Beam) utiliza um feixe de electrões focalizado para aquecer e vaporizar materiais de origem, que depois se condensam num substrato para formar uma película fina. Este processo pode ser controlado com precisão utilizando sistemas informáticos para gerir parâmetros como o aquecimento, os níveis de vácuo e o posicionamento do substrato. A adição da assistência de feixes de iões durante a deposição por feixe de electrões melhora a aderência e a densidade dos revestimentos, conduzindo a revestimentos ópticos mais robustos e menos sujeitos a tensões.

Mecanismo de deposição:

Tanto na deposição por feixe de iões como por feixe de electrões, a energia das partículas do feixe é transferida para o material alvo, provocando a sua vaporização. O material vaporizado deposita-se então num substrato, formando uma película fina. A escolha do método de deposição depende das propriedades desejadas da película e dos requisitos específicos da aplicação.

Vantagens e aplicações:

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