Conhecimento O que é um Reator de Plasma de Micro-ondas? 5 pontos-chave explicados
Avatar do autor

Equipe técnica · Kintek Solution

Atualizada há 2 meses

O que é um Reator de Plasma de Micro-ondas? 5 pontos-chave explicados

Um reator de plasma de micro-ondas é um sistema especializado utilizado para processos de deposição química de vapor. É particularmente útil para sintetizar materiais como diamantes, nanotubos de carbono e grafeno. Este reator utiliza energia de micro-ondas a uma frequência de 2,45 GHz para gerar um plasma dentro de uma câmara controlada. O plasma é formado acima de uma mesa de substrato, longe das superfícies do reator, e pode ser ajustado em posição relativamente à janela de quartzo transparente de micro-ondas para otimizar o circuito de micro-ondas.

5 Pontos-chave explicados

O que é um Reator de Plasma de Micro-ondas? 5 pontos-chave explicados

1. Geração de micro-ondas e formação de plasma

O reator está equipado com um gerador de micro-ondas que funciona a 2,45 GHz. Esta é uma frequência comum para aplicações industriais e científicas. As micro-ondas são transmitidas para a câmara cilíndrica através de uma guia de ondas retangular e de um conversor de modo. No interior da câmara, as micro-ondas criam um padrão de campo eletromagnético ressonante que aquece e excita os gases reagentes, formando um plasma. Este plasma é tipicamente uma massa em forma de bola acima do substrato, o que é crucial para o processo de deposição.

2. Aquecimento do substrato e controlo dos gases

Os substratos no reator podem ser aquecidos independentemente da geração de plasma através de métodos como o aquecimento por indução (até 1000°C) e o aquecimento por polarização. Este controlo independente permite uma regulação precisa da temperatura durante o processo de deposição. Os gases utilizados no reator são introduzidos através de tubagens de aço inoxidável e os seus caudais são controlados por um medidor de caudal mássico. A unidade de controlo de gás MKS suporta uma variedade de gases, incluindo hidrogénio, metano, acetileno, árgon, azoto, oxigénio e outros, que são essenciais para diferentes tipos de síntese de materiais.

3. Conceção e desafios do reator

A conceção dos reactores de plasma de micro-ondas tem de responder a vários desafios, incluindo a fuga térmica, a quebra de tensão e os arcos voltaicos. Para evitar estes problemas, a conceção do reator tem de garantir que a intensidade do campo de micro-ondas é optimizada para evitar a formação de arcos, minimizando a perda de calor. Além disso, o reator deve ser concebido para evitar a entrada de poeiras no sistema de guia de ondas e evitar cantos e arestas vivas que possam conduzir a sobreaquecimento localizado e formação de arcos. Os procedimentos de afinação adequados são também cruciais para evitar o acoplamento do arco com a potência reflectida.

4. Tipos de reactores de plasma de micro-ondas

Ao longo do tempo, foram desenvolvidos vários tipos de reactores de plasma de micro-ondas, cada um com diferentes geometrias concebidas para melhorar a acomodação da potência de micro-ondas. Estes variam de simples tipos de tubos de quartzo a estruturas mais complexas, como os tipos elipsoide, cúpula, multimodo não cilíndrico, ressonador anel-antena-elipsoide e cónico-refletor. Cada conceção visa melhorar a capacidade de focagem das micro-ondas, proteger as janelas dieléctricas da corrosão por plasma e melhorar a capacidade de sintonização.

5. Aplicações e capacidades

O reator específico descrito na referência é capaz de produzir películas de diamante policristalino de alta qualidade a taxas de cerca de 6 μm por hora, uniformemente sobre um substrato de silício de 2x2 cm. Isto demonstra a capacidade do reator para produzir películas de espessura significativa em períodos relativamente curtos, tornando-o uma ferramenta valiosa para a síntese de materiais em aplicações industriais e de investigação.

Continue a explorar, consulte os nossos especialistas

Descubra o poder da inovação na síntese de materiais com os reactores de plasma de micro-ondas de última geração da KINTEK SOLUTION. Os nossos sistemas foram concebidos para otimizar os seus processos de deposição química de vapor, garantindo precisão, controlo e eficiência na criação de diamantes, nanotubos de carbono e grafeno de alta qualidade. Experimente um desempenho sem paralelo com os nossos avançados designs de reactores, concebidos para enfrentar os desafios da gestão térmica e do controlo de gases.Faça uma parceria com a KINTEK SOLUTION para revolucionar as suas capacidades de síntese de materiais hoje mesmo!

Produtos relacionados

Máquina de diamante MPCVD com ressonador de jarro de sino para laboratório e crescimento de diamante

Máquina de diamante MPCVD com ressonador de jarro de sino para laboratório e crescimento de diamante

Obtenha películas de diamante de alta qualidade com a nossa máquina MPCVD com ressonador de jarro de sino, concebida para laboratório e crescimento de diamantes. Descubra como a Deposição de Vapor Químico por Plasma de Micro-ondas funciona para o crescimento de diamantes usando gás carbónico e plasma.

Máquina de diamante MPCVD com ressonador cilíndrico para crescimento de diamante em laboratório

Máquina de diamante MPCVD com ressonador cilíndrico para crescimento de diamante em laboratório

Saiba mais sobre a Máquina MPCVD com Ressonador Cilíndrico, o método de deposição de vapor químico por plasma de micro-ondas utilizado para o crescimento de pedras preciosas e películas de diamante nas indústrias de joalharia e de semicondutores. Descubra as suas vantagens económicas em relação aos métodos HPHT tradicionais.

Sistema RF PECVD Deposição de vapor químico enriquecido com plasma e radiofrequência

Sistema RF PECVD Deposição de vapor químico enriquecido com plasma e radiofrequência

RF-PECVD é um acrónimo de "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". Deposita DLC (película de carbono tipo diamante) em substratos de germânio e silício. É utilizado na gama de comprimentos de onda infravermelhos de 3-12um.

Reator de Síntese Hidrotermal à Prova de Explosão

Reator de Síntese Hidrotermal à Prova de Explosão

Melhore as suas reacções laboratoriais com o Reator de Síntese Hidrotermal à Prova de Explosão. Resistente à corrosão, seguro e fiável. Encomende agora para uma análise mais rápida!

Máquina de Diamante MPCVD 915MHz

Máquina de Diamante MPCVD 915MHz

Máquina de diamante MPCVD 915MHz e o seu crescimento efetivo multi-cristal, a área máxima pode atingir 8 polegadas, a área máxima de crescimento efetivo de cristal único pode atingir 5 polegadas. Este equipamento é utilizado principalmente para a produção de películas de diamante policristalino de grandes dimensões, o crescimento de diamantes monocristalinos longos, o crescimento a baixa temperatura de grafeno de alta qualidade e outros materiais que requerem energia fornecida por plasma de micro-ondas para o crescimento.

Reator de alta pressão inoxidável

Reator de alta pressão inoxidável

Descubra a versatilidade do Reator de Alta Pressão Inoxidável - uma solução segura e fiável para aquecimento direto e indireto. Construído em aço inoxidável, pode suportar temperaturas e pressões elevadas. Saiba mais agora.

Mini Reator de Alta Pressão SS

Mini Reator de Alta Pressão SS

Mini Reator de Alta Pressão SS - Ideal para medicina, química e indústrias de investigação científica. Temperatura de aquecimento e velocidade de agitação programadas, até 22Mpa de pressão.

Forno tubular Slide PECVD com gasificador líquido Máquina PECVD

Forno tubular Slide PECVD com gasificador líquido Máquina PECVD

Sistema PECVD de deslizamento KT-PE12: Ampla gama de potência, controlo de temperatura programável, aquecimento/arrefecimento rápido com sistema deslizante, controlo de fluxo de massa MFC e bomba de vácuo.

Máquina de forno tubular rotativo inclinado para deposição química melhorada por plasma (PECVD)

Máquina de forno tubular rotativo inclinado para deposição química melhorada por plasma (PECVD)

Apresentamos o nosso forno PECVD rotativo inclinado para deposição precisa de película fina. Desfrute de uma fonte de correspondência automática, controlo de temperatura programável PID e controlo de caudalímetro de massa MFC de alta precisão. Características de segurança incorporadas para maior tranquilidade.

Forno de sinterização por plasma de faísca Forno SPS

Forno de sinterização por plasma de faísca Forno SPS

Descubra as vantagens dos fornos de sinterização por plasma de faísca para a preparação rápida e a baixa temperatura de materiais. Aquecimento uniforme, baixo custo e amigo do ambiente.

Máquina de revestimento PECVD de deposição por evaporação reforçada por plasma

Máquina de revestimento PECVD de deposição por evaporação reforçada por plasma

Actualize o seu processo de revestimento com equipamento de revestimento PECVD. Ideal para LED, semicondutores de potência, MEMS e muito mais. Deposita películas sólidas de alta qualidade a baixas temperaturas.

Equipamento HFCVD de revestimento de nano-diamante de matriz de desenho

Equipamento HFCVD de revestimento de nano-diamante de matriz de desenho

O molde de trefilagem de revestimento composto de nano-diamante utiliza carboneto cimentado (WC-Co) como substrato e utiliza o método da fase de vapor químico (abreviadamente, método CVD) para revestir o revestimento composto de diamante convencional e nano-diamante na superfície do orifício interior do molde.

Forno tubular CVD com várias zonas de aquecimento Máquina CVD

Forno tubular CVD com várias zonas de aquecimento Máquina CVD

Forno CVD KT-CTF14 Multi Zonas de Aquecimento - Controlo preciso da temperatura e fluxo de gás para aplicações avançadas. Temperatura máxima de até 1200 ℃, medidor de fluxo de massa MFC de 4 canais e controlador de tela de toque TFT de 7 ".

Forno tubular CVD versátil fabricado pelo cliente Máquina CVD

Forno tubular CVD versátil fabricado pelo cliente Máquina CVD

Obtenha o seu forno CVD exclusivo com o forno versátil KT-CTF16 fabricado pelo cliente. Funções personalizáveis de deslizamento, rotação e inclinação para reacções precisas. Encomendar agora!


Deixe sua mensagem