A deposição física de vapor (PVD) é um processo utilizado para revestir uma superfície metálica com uma película fina de outro material.
Este processo melhora as propriedades da superfície do metal, tornando-o mais duro e durável.
A PVD envolve a vaporização de um material sólido num ambiente de vácuo.
O material vaporizado é então depositado num substrato.
O revestimento não é uma camada espessa, mas sim uma acumulação minuciosa que se liga ao nível dos microns.
Esta ligação altera as propriedades físicas da superfície metálica.
A PVD é amplamente utilizada em várias indústrias e produtos, incluindo chips de computador, dispositivos ópticos, painéis solares e dispositivos médicos.
Melhora os atributos de desempenho através da criação de superfícies mais lisas e da redução da rugosidade.
4 Pontos-chave para compreender a Deposição em Vapor Físico
1. Propriedades de superfície melhoradas
A PVD torna a superfície metálica mais dura e durável.
2. Ambiente de vácuo
O processo envolve a vaporização de um material sólido no vácuo.
3. Deposição de película fina
O material vaporizado é depositado num substrato numa camada fina, de nível micrónico.
4. Vasta aplicação industrial
A PVD é utilizada em chips de computador, dispositivos ópticos, painéis solares e dispositivos médicos para melhorar o desempenho.
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