Os componentes do MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition) incluem o sistema de alimentação da fonte, o sistema de transporte de gás e de controlo do fluxo, a câmara de reação e o sistema de controlo da temperatura, o tratamento do gás residual e o sistema de alarme de proteção de segurança, bem como o sistema de funcionamento automático e de controlo eletrónico. Cada componente desempenha um papel crucial no funcionamento preciso e seguro do processo MOCVD.
Sistema de alimentação da fonte:
O sistema de alimentação da fonte no MOCVD é responsável por fornecer os precursores metal-orgânicos e os gases reactivos necessários. Estes precursores são normalmente compostos metal-orgânicos e os gases reactivos podem incluir hidrogénio, azoto ou outros gases inertes. O sistema assegura que estes materiais são entregues à câmara de reação de forma controlada, o que é fundamental para a qualidade e reprodutibilidade do crescimento da película fina.Sistema de transporte de gás e controlo de fluxo:
Este sistema é essencial para misturar os precursores e os gases reactivos na entrada da câmara de reação. Funciona em condições controladas de caudal e pressão para garantir a distribuição e concentração adequadas dos gases. A precisão do fluxo de gás é essencial para manter as reacções químicas desejadas durante o processo de deposição.
Câmara de reação e sistema de controlo da temperatura:
A câmara de reação é o local onde ocorre a deposição efectiva de materiais no substrato. Trata-se normalmente de uma câmara de quartzo de parede fria ou de aço inoxidável que funciona à pressão atmosférica ou a baixa pressão. O sistema de controlo da temperatura mantém o substrato a uma temperatura precisa, normalmente entre 500-1200°C, o que é crucial para as reacções de decomposição térmica necessárias para o crescimento da película.Tratamento de gases residuais e sistema de alarme de proteção de segurança:
Dada a natureza inflamável, explosiva e tóxica dos materiais de origem utilizados no MOCVD, é necessário um sistema robusto de tratamento de gases residuais para manusear e neutralizar com segurança estes gases depois de terem sido utilizados na câmara de reação. O sistema de alarme de proteção de segurança monitoriza o sistema para detetar quaisquer perigos potenciais e alerta os operadores para quaisquer problemas, garantindo a segurança do processo.
