O plasma de micro-ondas oferece várias vantagens, especialmente em processos como a deposição de vapor químico por plasma de micro-ondas (MPCVD) e técnicas de pulverização catódica.
7 Vantagens do Plasma de Micro-ondas
1. Eficiência energética e funcionamento sem eléctrodos
O plasma de micro-ondas é um processo sem eléctrodos.
Isto significa que não necessita de eléctrodos para gerar plasma.
Isto elimina a formação de uma bainha de plasma à volta dos eléctrodos, que pode consumir energia na CVD assistida por plasma de corrente contínua.
Esta natureza sem eléctrodos torna o processo mais eficiente em termos energéticos e reduz a complexidade da configuração.
2. Estabilidade e reprodutibilidade
O plasma não isotérmico gerado pela energia de micro-ondas é altamente estável e reprodutível.
Esta estabilidade permite processos de deposição contínua que podem decorrer durante muitas horas ou mesmo dias sem interrupção.
Isto é crucial para aplicações que requerem produções em grande escala ou de longa duração.
3. Escalabilidade e modularidade
A disponibilidade de fontes de alimentação e aplicadores de micro-ondas de 1-2 KW facilita a utilização de unidades modulares.
A taxa de crescimento em MPCVD é proporcional à potência de micro-ondas.
Isto significa que o aumento da potência pode aumentar a escala do processo.
Esta escalabilidade é benéfica para expandir a produção para substratos maiores ou volumes mais elevados.
4. Melhoria da densidade e do controlo do plasma
A utilização de magnetrões melhorados em sistemas de plasma de micro-ondas cria uma descarga de corrente mais elevada e de tensão mais baixa em comparação com os métodos de pulverização catódica normais.Isto resulta numa maior densidade de espécies ionizadas, levando a uma pulverização mais rápida do material alvo.As fontes de alimentação modernas utilizadas nestes sistemas oferecem um elevado grau de estabilidade e controlo. Isto torna os processos de plasma e de revestimento fáceis de regular e escaláveis para tamanhos muito grandes.
