Forno de tubos
Forno Tubular de Quartzo de Laboratório Multi-Zona
Número do item : KT-MTF
O preço varia com base em especificações e personalizações
- Temperatura máxima
- 1700 ℃
- Temperatura de trabalho constante
- 1650 ℃
- Diâmetro do tubo do forno
- 30 / 40 / 60 / 80 / 100 / 150 / 230 mm
- Comprimento da zona de aquecimento
- 300 / 450 / 600 / 800 mm
- Quantidade de zonas de aquecimento
- 1-10 zonas
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Introdução
Um Forno Tubular Multi-Zona é um equipamento de laboratório versátil projetado para aplicações de alta temperatura. Ele possui múltiplas zonas de aquecimento controladas independentemente, permitindo gradientes de temperatura precisos ou aquecimento uniforme. O forno é tipicamente equipado com tubos de quartzo ou alumina de alta pureza para contenção e aquecimento de amostras.
Este sistema avançado oferece uma ampla faixa de temperatura (300-1600℃), controle preciso de temperatura e isolamento térmico eficiente. Suas aplicações incluem sinterização, revestimento, decomposição térmica e processos de deposição química de vapor (CVD) sob vácuo ou ambientes de gás inerte. As múltiplas zonas de aquecimento permitem perfis de temperatura personalizados, aumentando a eficiência e a precisão dos testes e análises térmicas.
Aplicações
Fornos Tubulares Multi-Zona são amplamente utilizados em várias aplicações, incluindo:
- Sinterização
- Revestimento
- Decomposição térmica
- Processo CVD
- Testes de têmpera
- Medições de temperatura
- Deposição química de vapor
- Tratamento térmico de alta temperatura
- Materiais metálicos
- Materiais cerâmicos
- Nanomateriais
- Materiais semicondutores
- Metalurgia do pó
- Novos materiais
- Petroquímica
- Aeroespacial
Características
O Forno Tubular Multi-Zona oferece uma gama de recursos avançados projetados para aumentar a eficiência e a precisão de seus processos de laboratório:
- Controle Preciso de Temperatura: O controle independente de cada zona de aquecimento garante uma distribuição precisa da temperatura e minimiza os gradientes de temperatura.
- Capacidade de Alta Temperatura: Com uma temperatura máxima de 1600℃, este forno é adequado para uma ampla gama de aplicações de alta temperatura.
- Zonas de Aquecimento Versáteis: Disponível em 2, 3 ou 5 zonas de aquecimento, o forno permite perfis de temperatura personalizados e requisitos de aquecimento sob medida.
- Isolamento Térmico Eficiente: O design de dupla carcaça do forno com circulação de ar forçada minimiza a perda de calor e mantém uma baixa temperatura superficial.
- Operação Fácil: O controle de temperatura programável PID e uma tela sensível ao toque amigável simplificam a operação e o monitoramento.
- Controle Remoto: Capacidades de controle remoto e controle centralizado permitem uma operação conveniente e eficiente.
- Compatibilidade com Alto Vácuo: A flange de vácuo de aço inoxidável com múltiplas portas garante excelente vedação e alta pressão de vácuo para aplicações baseadas em vácuo.
- Registro e Análise de Dados: O controlador de tela sensível ao toque TFT permite fácil configuração de programas, análise de dados históricos e armazenamento de receitas.
Princípio
O Forno Tubular Multi-Zona funciona aquecendo uma amostra em um ambiente controlado. O forno possui múltiplas zonas de aquecimento, cada uma podendo ser controlada independentemente para criar um gradiente de temperatura específico. Isso permite um controle preciso do processo de aquecimento e pode ser usado para uma variedade de aplicações, como recozimento, sinterização e CVD. O forno também é equipado com uma bomba de vácuo para criar um ambiente de vácuo, que pode ser usado para remover gases da amostra ou para criar uma atmosfera controlada.
Vantagens
- Controle preciso de temperatura: Cada zona de aquecimento pode ser controlada independentemente, permitindo gradientes de temperatura precisos e aquecimento uniforme em todo o tubo.
- Capacidade de alta temperatura: Com uma temperatura máxima de 1600℃, o Forno Tubular Multi-Zona pode lidar com aplicações exigentes que requerem altas temperaturas.
- Compatibilidade com vácuo e gás inerte: O forno pode ser usado sob vácuo ou em condições de fluxo de gás inerte, tornando-o adequado para vários processos, como têmpera, sinterização e CVD.
- Materiais de alta pureza: O tubo do forno é feito de quartzo de alta pureza ou alumina, garantindo contaminação mínima e medições de temperatura precisas.
- Isolamento térmico eficiente: O design de dupla carcaça do forno e o fluxo de ar forçado entre as carcaças interna e externa minimizam a perda de calor e mantêm uma baixa temperatura superficial.
- Interface amigável: Controlador de tela sensível ao toque TFT com programação intuitiva e recursos de análise de dados simplifica a operação e o monitoramento.
- Versatilidade: Adequado para várias aplicações em ambientes de pesquisa, desenvolvimento e produção, incluindo processamento de materiais, medições de temperatura e testes.
Vantagem de Segurança
- O forno tubular Kindle Tech possui proteção contra sobrecorrente e função de alarme de sobretemperatura, o forno desligará automaticamente a energia assim que a sobrecorrente for detectada.
- Função de detecção de termopar embutida no forno, o forno parará de aquecer e o alarme será ativado assim que o termopar for quebrado ou falha detectada.
- O TFM Pro suporta a função de reinicialização após falha de energia, o forno retomará o programa de aquecimento do forno quando a energia for restabelecida após a falha.
Especificações técnicas
| Modelo do forno | KT-MTF | KT-MTF Pro |
| Controlador de temperatura | Controlador PID digital | Controlador PID com tela sensível ao toque |
| Pré-configuração de múltiplos programas | não | sim |
| Reinicialização após falha de energia | não | sim |
| Temp. máx. | 1700℃ | |
| Temperatura de trabalho constante | 1650℃ | |
| Material do tubo do forno | Quartzo de alta qualidade / Alumina Al2O3 | |
| Diâmetro do tubo do forno | 30 / 40 / 60 / 80 / 100 / 150 / 230 mm | |
| Comprimento da zona de aquecimento | 300 / 450 / 600 / 800 mm | |
| Quantidade de zonas de aquecimento | 1-10 zonas | |
| Solução de vedação a vácuo | Flange SS 304 com anel O | |
| Pressão nominal de vácuo | 0.001Pa/10E5 torr | |
| Pressão positiva nominal | 0.02Mpa/150 torr | |
| Material da câmara | Fibra de alumina Al2O3 do Japão | |
| Elemento de aquecimento | Bobina de fio Cr2Al2Mo2 | |
| Termopar | Tipo K / S / B | |
| Precisão do controle de temperatura | ±1℃ | |
| Uniformidade de temperatura | ±5℃ | |
| Fonte de alimentação elétrica | AC110-220V, 50/60HZ | |
| Outros tamanhos de tubo de alumina Al2O3 e comprimentos de zona de aquecimento podem ser personalizados | ||
Pacote Padrão
| Nº | Descrição | Quantidade |
| 1 | Forno | 1 |
| 2 | Tubo de alumina | 1 |
| 3 | Flange de vácuo | 2 |
| 4 | Bloco térmico do tubo | 2 |
| 5 | Gancho do bloco térmico do tubo | 1 |
| 6 | Luva resistente ao calor | 1 |
| 7 | Manual de operação | 1 |
Configuração Opcional
- Detecção e monitoramento de gases no tubo, como H2, O2 e assim por diante
- Monitoramento e registro independente da temperatura do forno
- Porta de comunicação RS 485 para controle remoto e exportação de dados do PC
- Controle de taxa de fluxo de alimentação de gases de inserção, como medidor de fluxo de massa e medidor de fluxo de flutuação
- Controlador de temperatura de tela sensível ao toque com funções versáteis e fáceis de usar
- Configurações de estação de bomba de alto vácuo, como bomba de vácuo de palhetas, bomba molecular, bomba de difusão
Avisos
A segurança do operador é a questão mais importante! Por favor, opere o equipamento com cautelas. Trabalhar com gases inflamáveis, explosivos ou tóxicos é muito perigoso, os operadores devem tomar todas as precauções necessárias antes de iniciar o equipamento. Trabalhar com pressão positiva dentro dos reactores ou câmaras é perigoso, o operador deve seguir rigorosamente os procedimentos de segurança. Extra também deve ser tido cuidado ao operar com materiais reativos ao ar, especialmente sob vácuo. Uma fuga pode aspirar ar para dentro do aparelho e provocar ocorrer uma reação violenta.
Desenhado para si
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FAQ
O Que é Um Forno Tubular?
O forno tubular de laboratório é um forno tubular clássico de aquecimento externo de alta temperatura, também chamado de forno de aquecimento de parede quente.
De acordo com a temperatura de trabalho diferente, o material do tubo do forno geralmente pode ser tubos de quartzo transparentes, tubos de cerâmica de alumina de alta pureza e tubos de liga metálica de alta resistência.
Para atender a diferentes propósitos de pesquisa térmica, o forno de tubo pode ser projetado com várias zonas de aquecimento, de modo a ter um controle flexível do gradiente de temperatura na câmara de trabalho do tubo; o tubo do forno pode funcionar com um ambiente de trabalho de atmosfera controlada ou um ambiente de trabalho de alto vácuo.
O Que é O Forno CVD?
A deposição química de vapor (CVD) é uma tecnologia que utiliza várias fontes de energia, como aquecimento, excitação de plasma ou radiação de luz para reagir quimicamente substâncias químicas gasosas ou de vapor na fase gasosa ou na interface gás-sólido para formar depósitos sólidos no reator por meio de reação química. simplificando, duas ou mais matérias-primas gasosas são introduzidas em uma câmara de reação e, em seguida, reagem entre si para formar um novo material e depositá-lo na superfície do substrato.
O forno CVD é um sistema de forno combinado com unidade de forno tubular de alta temperatura, unidade de controle de gases e unidade de vácuo, é amplamente utilizado para experimentos e produção de preparação de material composto, processo microeletrônico, optoeletrônico semicondutor, utilização de energia solar, comunicação de fibra ótica, tecnologia de supercondutor, campo de revestimento protetor.
Como é Que Um Forno Tubular Funciona?
Os elementos de aquecimento do forno tubular são colocados em torno da cavidade cilíndrica, o forno só pode aquecer as amostras na cavidade cilíndrica através de radiação térmica indireta, uma vez que o tubo do forno pode impedir que o material da amostra entre em contato com os elementos de aquecimento do forno e os materiais de isolamento, de modo que o forno tubular cria uma câmara de calor isolada e limpa e reduz os riscos de contaminação do material da amostra pelo forno.
Como é Que O Forno CVD Funciona?
O sistema de forno CVD consiste em uma unidade de forno de tubo de alta temperatura, unidade de controle preciso da fonte de gás reagente, estação de bomba de vácuo e peças de montagem correspondentes.
A bomba de vácuo é para remover o ar do tubo de reação e garantir que não haja gases indesejados dentro do tubo de reação, depois que o forno de tubo aquecerá o tubo de reação a uma temperatura alvo, então a unidade de controle preciso da fonte de gás reagente pode introduzir gases diferentes com uma proporção definida no tubo do forno para a reação química, a deposição de vapor químico será formada no forno CVD.
Qual é A Aplicação Do Forno Tubular?
O forno tubular é usado principalmente em metalurgia, vidro, tratamento térmico, ânodo de lítio e materiais catódicos, novas energias, abrasivos e outras indústrias, e é um equipamento profissional para medir materiais sob certas condições de temperatura.
O forno tubular apresenta estrutura simples, operação fácil, controle fácil e produção contínua.
O forno tubular também é amplamente aplicado nos sistemas CVD (deposição de vapor químico) e CVD aprimorado por plasma.
Que Gás é Utilizado No Processo CVD?
Existem tremendas fontes de gás que podem ser usadas no processo CVD, as reações químicas comuns do CVD incluem pirólise, fotólise, redução, oxidação, redox, de modo que os gases envolvidos nessas reações químicas podem ser usados no processo CVD.
Tomamos o crescimento de grafeno CVD como exemplo, os gases usados no processo CVD serão CH4, H2, O2 e N2.
Quantos Tipos Diferentes De Fornos Tubulares?
O forno tubular pode trabalhar com diferentes funções mecânicas sem problemas, por isso existem muitos tipos diferentes de variações de forno tubular para diferentes fins experimentais, os fornos típicos são os seguintes:
- Forno de tubo horizontal
- Forno de tubo vertical
- Forno de tubo dividido
- Forno de tubo rotativo
- Forno de tubo basculante
- Forno de tubo deslizante
- Forno de tubo de aquecimento e resfriamento rápido
- Forno de tubo de alimentação e descarga contínua
Qual é A Vantagem Do Sistema CVD?
- Pode ser produzida uma vasta gama de películas, películas metálicas, películas não metálicas e películas de ligas multicomponentes, conforme necessário. Ao mesmo tempo, pode preparar cristais de alta qualidade que são difíceis de obter por outros métodos, como GaN, BP, etc.
- A velocidade de formação da película é rápida, geralmente vários microns por minuto ou mesmo centenas de microns por minuto. É possível depositar simultaneamente grandes quantidades de revestimentos com composição uniforme, o que é incomparável com outros métodos de preparação de filmes, como epitaxia de fase líquida (LPE) e epitaxia de feixe molecular (MBE).
- As condições de trabalho são realizadas sob pressão normal ou condições de baixo vácuo, de modo que o revestimento tem boa difração, e as peças de trabalho com formas complexas podem ser uniformemente revestidas, o que é muito superior ao PVD.
- Devido à difusão mútua do gás de reação, do produto da reação e do substrato, pode obter-se um revestimento com boa força de adesão, o que é crucial para a preparação de películas reforçadas à superfície, tais como películas resistentes ao desgaste e anti-corrosão.
- Algumas películas crescem a uma temperatura muito inferior ao ponto de fusão do material da película. Sob a condição de crescimento a baixa temperatura, o gás de reação e a parede do reator e as impurezas contidas neles quase não reagem, de modo que um filme com alta pureza e boa cristalinidade pode ser obtido.
- A deposição química de vapor pode obter uma superfície de deposição lisa. Isso ocorre porque, em comparação com o LPE, a deposição de vapor químico (CVD) é realizada sob alta saturação, com alta taxa de nucleação, alta densidade de nucleação e distribuição uniforme em todo o plano, resultando em uma superfície lisa macroscópica. Ao mesmo tempo, na deposição de vapor químico, o caminho livre médio das moléculas (átomos) é muito maior do que o LPE, de modo que a distribuição espacial das moléculas é mais uniforme, o que favorece a formação de uma superfície de deposição lisa.
- Baixos danos por radiação, que é uma condição necessária para a fabricação de semicondutores de óxido metálico (MOS) e outros dispositivos
Quais São As Vantagens De Utilizar Um Forno Tubular?
O Que Significa PECVD?
O PECVD é uma tecnologia que utiliza o plasma para ativar o gás de reação, promover a reação química na superfície do substrato ou no espaço próximo da superfície e gerar uma película sólida. O princípio básico da tecnologia de deposição de vapor químico de plasma é que, sob a ação do campo elétrico de RF ou DC, o gás de origem é ionizado para formar um plasma, o plasma de baixa temperatura é usado como fonte de energia, uma quantidade apropriada de gás de reação é introduzida e a descarga de plasma é usada para ativar o gás de reação e realizar a deposição de vapor químico.
De acordo com o método de geração de plasma, ele pode ser dividido em plasma de RF, plasma de DC e plasma de micro-ondas CVD, etc ...
Que Precauções De Segurança Devem Ser Tomadas Quando Se Utiliza Um Forno Tubular?
Qual é A Diferença Entre CVD E PECVD?
A diferença entre o PECVD e a tecnologia CVD tradicional é que o plasma contém um grande número de electrões de alta energia, que podem fornecer a energia de ativação necessária no processo de deposição de vapor químico, alterando assim o modo de fornecimento de energia do sistema de reação. Uma vez que a temperatura dos electrões no plasma é tão elevada como 10000K, a colisão entre os electrões e as moléculas de gás pode promover a quebra de ligações químicas e a recombinação das moléculas de gás de reação para gerar grupos químicos mais activos, enquanto todo o sistema de reação mantém uma temperatura mais baixa.
Assim, em comparação com o processo CVD, o PECVD pode realizar o mesmo processo de deposição química de vapor com uma temperatura mais baixa.
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