A deposição de vapor de ouro em vácuo é um processo utilizado para depositar uma fina camada de ouro em várias superfícies, como placas de circuitos, jóias de metal ou implantes médicos.
Este processo é um tipo de deposição física de vapor (PVD) e é realizado numa câmara de vácuo para garantir que os átomos de ouro aderem corretamente ao substrato sem a interferência do ar ou de outros gases.
Explicação das 4 etapas principais
1. Criação de vácuo
O primeiro passo envolve a criação de vácuo numa câmara para eliminar o ar e outros gases que possam interferir com o processo de deposição.
Isto assegura que os átomos de ouro podem viajar diretamente para o substrato sem contaminação ou problemas de adesão.
2. Preparação do substrato
O objeto a revestir, conhecido como substrato, é colocado na câmara de vácuo.
Dependendo da aplicação, o substrato pode necessitar de limpeza ou de outras preparações para garantir uma adesão óptima da camada de ouro.
3. Evaporação ou pulverização catódica do material
No caso do ouro, o processo envolve normalmente a pulverização catódica.
Um material alvo de ouro é colocado na câmara e bombardeado com iões de alta energia.
Este bombardeamento faz com que os átomos de ouro sejam ejectados ou "pulverizados" num vapor fino.
4. Deposição
Quando os átomos de ouro se encontram no estado de vapor, são depositados no substrato.
Esta deposição ocorre ao nível atómico ou molecular, permitindo um controlo preciso da espessura e uniformidade da camada de ouro.
A camada pode variar entre um único átomo de espessura e vários milímetros, dependendo dos requisitos da aplicação.
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