Conhecimento Qual é a forma completa do reator CVD? (7 componentes principais explicados)
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Atualizada há 2 semanas

Qual é a forma completa do reator CVD? (7 componentes principais explicados)

A forma completa de reator CVD é reator de deposição química em fase vapor.

Um reator CVD é um sistema especializado utilizado para a deposição de películas finas sobre um substrato.

Envolve uma série de componentes, incluindo um sistema de fornecimento de gás, câmara do reator, mecanismo de carregamento do substrato, fonte de energia, sistema de vácuo, sistema de exaustão e sistemas de tratamento de exaustão.

O reator funciona através da introdução de precursores na câmara, onde estes reagem ou se decompõem para depositar uma camada de material no substrato.

7 Componentes principais explicados

Qual é a forma completa do reator CVD? (7 componentes principais explicados)

1. Sistema de fornecimento de gás

Este componente fornece os precursores necessários para a câmara do reator.

Estes precursores são normalmente gases que contêm os elementos necessários para o processo de deposição.

2. Câmara do reator

Esta é a parte central do sistema CVD, onde se realiza a deposição propriamente dita.

A câmara é concebida para manter condições específicas, como a temperatura, a pressão e a composição do gás, para facilitar a reação.

3. Mecanismo de carregamento do substrato

Este sistema é responsável pela introdução e remoção de substratos para dentro e para fora da câmara do reator.

Assegura que os substratos são posicionados corretamente para o processo de deposição.

4. Fonte de energia

A fonte de energia fornece o calor ou a energia necessária para iniciar e manter as reacções químicas que conduzem à deposição.

Pode ser sob a forma de aquecimento resistivo, aquecimento indutivo ou energia de micro-ondas, como no sistema MW-CVD.

5. Sistema de vácuo

Este sistema é crucial para manter um ambiente limpo no interior do reator, removendo gases indesejados e mantendo uma pressão baixa.

Isto ajuda a controlar as condições de reação e a melhorar a qualidade da película depositada.

6. Sistema de exaustão

Após a reação, os subprodutos voláteis são removidos da câmara do reator através deste sistema.

Este sistema assegura que os subprodutos não interferem com o processo de deposição em curso.

7. Sistemas de tratamento de gases de escape

Em alguns casos, os gases de escape podem conter substâncias nocivas ou tóxicas que precisam de ser tratadas antes de serem libertadas para o ambiente.

Estes sistemas convertem estes gases em compostos inofensivos.

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