Quando se trata de criar sistemas de interconexão de metal, a pulverização catódica oferece várias vantagens sobre a evaporação.
Duas vantagens do uso da pulverização catódica sobre a evaporação
1. Melhor qualidade e uniformidade do filme
A pulverização catódica é conhecida por produzir películas com qualidade e uniformidade superiores em comparação com a evaporação.
Isto deve-se ao facto de a pulverização catódica envolver o bombardeamento de um material alvo com partículas energéticas.
Isto leva a uma deposição mais uniforme do material no substrato.
A película resultante é mais consistente em toda a sua superfície.
Esta uniformidade é crucial nos sistemas de interconexão metálica em que são essenciais propriedades eléctricas consistentes.
2. Controlo mais fácil da espessura e da composição da película
A pulverização catódica permite um controlo mais preciso da espessura da película depositada.
Isto pode ser conseguido através do ajuste do tempo de deposição e dos parâmetros operacionais.
O controlo da composição da liga e de outras propriedades da película, como a cobertura de degraus e a estrutura do grão, é mais simples com a pulverização catódica do que com a evaporação.
Este controlo é vital para a criação de sistemas de interligação de metais que requerem propriedades específicas do material para funcionarem eficazmente.
A pulverização catódica também permite a deposição de materiais com pontos de fusão muito altos.
Esses materiais são difíceis ou impossíveis de evaporar.
Isso amplia a gama de materiais que podem ser usados em sistemas de interconexão.
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