Conhecimento Quais são os 4 principais métodos de produção de grafeno?
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Equipe técnica · Kintek Solution

Atualizada há 4 semanas

Quais são os 4 principais métodos de produção de grafeno?

A produção de grafeno envolve vários métodos, cada um com o seu próprio conjunto de vantagens e limitações.

4 Métodos principais de produção de grafeno

Quais são os 4 principais métodos de produção de grafeno?

1. Deposição química em fase vapor (CVD)

A deposição química em fase vapor (CVD) é o método mais utilizado para produzir grafeno de alta qualidade em grande escala.

Neste processo, o grafeno é cultivado num substrato, normalmente um metal como o cobre ou o níquel.

Um gás hidrocarboneto, normalmente metano, é aquecido a altas temperaturas para se decompor em átomos de carbono e hidrogénio.

Os átomos de carbono ligam-se então ao substrato metálico e reorganizam-se para formar uma camada de grafeno à medida que o sistema arrefece.

A CVD é preferida pela sua escalabilidade e pela elevada qualidade do grafeno que produz.

Técnicas como os processos "batch-to-batch" (B2B) ou "roll-to-roll" (R2R) podem aumentar ainda mais o rendimento e obter películas de grafeno de maiores dimensões.

2. Esfoliação mecânica

A esfoliação mecânica consiste em descolar camadas de grafeno de uma massa de grafite utilizando fita adesiva.

Este método foi criado por Geim e Novoselov.

Embora possa produzir grafeno de alta qualidade, não é escalável para produção industrial devido ao seu baixo rendimento e à incapacidade de produzir grafeno de grande área.

3. Esfoliação em fase líquida

Neste método, a grafite a granel é dispersa num solvente e sujeita a alta energia, como a ultra-sons, para separar as camadas de grafeno.

O solvente deve ter uma tensão superficial adequada para estabilizar os flocos de grafeno.

Embora este método possa ser utilizado para a produção em massa, a qualidade do grafeno produzido é geralmente inferior em termos de propriedades eléctricas, em comparação com a CVD ou a esfoliação mecânica.

4. Sublimação de carboneto de silício (SiC)

Esta técnica consiste em aquecer o SiC a altas temperaturas num vácuo ultra-elevado, provocando a sublimação do silício e deixando uma camada de grafeno na superfície do SiC.

Embora este método possa produzir grafeno de alta qualidade, é dispendioso e requer quantidades significativas de SiC, o que o torna menos adequado para a produção em grande escala.

Cada um destes métodos tem as suas vantagens e limitações, sendo que o CVD lidera atualmente as aplicações industriais devido ao seu equilíbrio entre qualidade, escalabilidade e eficácia de custos.

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