Forno CVD e PECVD
Sistema de Câmara de Deposição Química em Fase Vapor CVD Forno de Tubo PECVD com Gaseificador Líquido Máquina PECVD
Número do item : KT-PE12
O preço varia com base em especificações e personalizações
- Temperatura máxima
- 1200 ℃
- Temperatura de trabalho constante
- 1100 ℃
- Diâmetro do tubo do forno
- 60 mm
- Comprimento da zona de aquecimento
- 1x450 mm
- Taxa de aquecimento
- 0-20 ℃/min
- Distância de deslizamento
- 600mm
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Introdução
A Máquina PECVD com Gaseificador Líquido e Forno de Tubo Deslizante PECVD é um sistema versátil e de alto desempenho projetado para uma ampla gama de aplicações de deposição de filmes finos. Possui uma fonte de plasma de RF de 500W, forno deslizante, controle preciso de fluxo de gás e uma estação de vácuo. O sistema oferece vantagens como casamento automático de plasma, aquecimento e resfriamento de alta velocidade, controle de temperatura programável e uma interface amigável. É amplamente utilizado em ambientes de pesquisa e produção para deposição de filmes finos em várias indústrias, incluindo eletrônica, semicondutores e óptica.
Aplicações
A Máquina PECVD com Gaseificador Líquido e Forno de Tubo Deslizante PECVD encontra suas aplicações em:
- Deposição Química em Fase Vapor (CVD)
- Deposição Química em Fase Vapor Aprimorada por Plasma (PECVD)
- Deposição de filmes finos
- Fabricação de células solares
- Processamento de semicondutores
- Nanotecnologia
- Ciência dos materiais
- Pesquisa e desenvolvimento
Diferentes sistemas CVD de temperatura e configuração disponíveis
Princípio
A Máquina PECVD com Gaseificador Líquido e Forno de Tubo Deslizante PECVD emprega plasma de baixa temperatura para gerar uma descarga luminescente no cátodo da câmara de processo (bandeja de amostra). A descarga luminescente (ou outra fonte de calor) eleva a temperatura da amostra a um nível predeterminado. Em seguida, quantidades controladas de gás de processo são introduzidas, passando por reações químicas e de plasma para formar um filme sólido na superfície da amostra.
Características
A Máquina PECVD com Gaseificador Líquido e Forno de Tubo Deslizante PECVD oferece inúmeros benefícios aos usuários:
- Geração de energia aprimorada para wafers de células solares: A inovadora estrutura de barco de grafite melhora significativamente a saída de energia das células solares.
- Eliminação da diferença de cor em células PECVD tubulares: Este equipamento aborda efetivamente o problema da variação de cor em células PECVD tubulares.
- Ampla faixa de potência de saída (5-500W): A fonte de casamento automático de plasma de RF fornece uma faixa versátil de potência de saída, garantindo desempenho ideal para várias aplicações.
- Aquecimento e resfriamento de alta velocidade: O sistema deslizante da câmara do forno permite aquecimento e resfriamento rápidos, reduzindo o tempo de processamento. A circulação auxiliar de ar forçado acelera ainda mais a taxa de resfriamento.
- Movimento deslizante automatizado: O recurso opcional de movimento deslizante permite operação automática, aumentando a eficiência e reduzindo a intervenção manual.
- Controle preciso de temperatura: O controle de temperatura programável PID garante uma regulação precisa da temperatura, suportando controle remoto e centralizado para conveniência adicional.
- Controle de fluxômetro de massa MFC de alta precisão: O fluxômetro de massa MFC controla com precisão os gases de origem, garantindo um suprimento de gás estável e consistente.
- Estação de vácuo versátil: A flange de vácuo de aço inoxidável com múltiplas portas de adaptação acomoda várias configurações de estação de bomba de vácuo, garantindo um alto grau de vácuo.
- Interface amigável: O controlador de tela sensível ao toque TFT CTF Pro de 7 polegadas simplifica a configuração do programa e permite a análise fácil de dados históricos.
Vantagens
- Fonte de casamento automático de plasma de RF, ampla faixa de potência de saída de 5-500W com saída estável
- Sistema deslizante da câmara do forno para aquecimento de alta velocidade e resfriamento de curto tempo, resfriamento rápido auxiliar e movimento deslizante automático estão disponíveis
- Controle de temperatura programável PID, excelente precisão de controle e suporte a controle remoto e controle centralizado
- Controle de fluxômetro de massa MFC de alta precisão, pré-mistura de gases de origem e velocidade de suprimento de gás estável
- Flange de vácuo de aço inoxidável com várias portas de adaptação para atender a diferentes configurações de estação de bomba de vácuo, boa vedação e alto grau de vácuo
- O CTF Pro aplica um controlador de tela sensível ao toque TFT de 7 polegadas, configuração de programa mais amigável e análise de dados históricos
Vantagem de Segurança
- O forno de tubo Kindle Tech possui proteção contra sobrecorrente e função de alarme de sobretemperatura, o forno desligará automaticamente a energia
- O forno possui função de detecção de termopar embutida, o forno parará de aquecer e o alarme será ativado assim que for detectada uma quebra ou falha
- O PE Pro suporta a função de reinicialização após falha de energia, o forno retomará o programa de aquecimento do forno quando a energia for restabelecida após a falha
Especificações técnicas
| Modelo do forno | KT-PE12-60 |
| Temperatura máx. | 1200℃ |
| Temperatura de trabalho constante | 1100℃ |
| Material do tubo do forno | Quartzo de alta pureza |
| Diâmetro do tubo do forno | 60mm |
| Comprimento da zona de aquecimento | 1x450mm |
| Material da câmara | Fibra de alumina japonesa |
| Elemento de aquecimento | Fio em espiral Cr2Al2Mo2 |
| Taxa de aquecimento | 0-20℃/min |
| Termopar | Tipo K embutido |
| Controlador de temperatura | Controlador digital PID/Controlador PID de tela sensível ao toque |
| Precisão do controle de temperatura | ±1℃ |
| Distância de deslizamento | 600mm |
| Unidade de plasma de RF | |
| Potência de saída | Ajustável de 5 a 500W com estabilidade de ± 1% |
| Frequência de RF | 13,56 MHz ± 0,005% de estabilidade |
| Potência de reflexão | Máx. 350W |
| Casamento | Automático |
| Ruído | <50 dB |
| Resfriamento | Resfriamento a ar. |
| Unidade de controle preciso de gás | |
| Fluxômetro | Fluxômetro de massa MFC |
| Canais de gás | 4 canais |
| Taxa de fluxo | MFC1: 0-5SCCM O2 MFC2: 0-20SCMCH4 MFC3: 0- 100SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 |
| Linearidade | ±0,5% F.S. |
| Repetibilidade | ±0,2% F.S. |
| Linha de tubulação e válvula | Aço inoxidável |
| Pressão máxima de operação | 0,45MPa |
| Controlador de fluxômetro | Controlador de botão digital/Controlador de tela sensível ao toque |
| Unidade de vácuo padrão (Opcional) | |
| Bomba de vácuo | Bomba de vácuo de palhetas rotativas |
| Taxa de fluxo da bomba | 4L/S |
| Porta de sucção de vácuo | KF25 |
| Manômetro de vácuo | Manômetro de vácuo Pirani/Resistência de silício |
| Pressão nominal de vácuo | 10Pa |
| Unidade de alto vácuo (Opcional) | |
| Bomba de vácuo | Bomba de palhetas rotativas + Bomba molecular |
| Taxa de fluxo da bomba | 4L/S+110L/S |
| Porta de sucção de vácuo | KF25 |
| Manômetro de vácuo | Manômetro de vácuo composto |
| Pressão nominal de vácuo | 6x10-4Pa |
| As especificações e configurações acima podem ser personalizadas | |
Pacote Padrão
| Nº | Descrição | Quantidade |
| 1 | Forno | 1 |
| 2 | Tubo de quartzo | 1 |
| 3 | Flange de vácuo | 2 |
| 4 | Bloco térmico do tubo | 2 |
| 5 | Gancho do bloco térmico do tubo | 1 |
| 6 | Luva resistente ao calor | 1 |
| 7 | Fonte de plasma de RF | 1 |
| 8 | Controle preciso de gás | 1 |
| 9 | Unidade de vácuo | 1 |
| 10 | Manual de operação | 1 |
Configuração Opcional
- Detecção e monitoramento de gases no tubo, como H2, O2 e assim por diante
- Monitoramento e gravação independentes da temperatura do forno
- Porta de comunicação RS 485 para controle remoto de PC e exportação de dados
- Controle de taxa de fluxo de alimentação de gases de inserção, como fluxômetro de massa e fluxômetro de flutuação
- Controlador de temperatura de tela sensível ao toque com funções versáteis e amigáveis ao operador
- Configurações de estação de bomba de alto vácuo, como bomba de vácuo de palhetas, bomba molecular, bomba de difusão
Avisos
A segurança do operador é a questão mais importante! Por favor, opere o equipamento com cautelas. Trabalhar com gases inflamáveis, explosivos ou tóxicos é muito perigoso, os operadores devem tomar todas as precauções necessárias antes de iniciar o equipamento. Trabalhar com pressão positiva dentro dos reactores ou câmaras é perigoso, o operador deve seguir rigorosamente os procedimentos de segurança. Extra também deve ser tido cuidado ao operar com materiais reativos ao ar, especialmente sob vácuo. Uma fuga pode aspirar ar para dentro do aparelho e provocar ocorrer uma reação violenta.
Desenhado para si
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FAQ
O Que é O Método PECVD?
O Que é O Mpcvd?
Para Que é Utilizado O PECVD?
O Que é A Máquina Mpcvd?
Quais São As Vantagens Do PECVD?
Quais São As Vantagens Do Mpcvd?
Qual é A Diferença Entre ALD E PECVD?
Os Diamantes CVD São Reais Ou Falsos?
Qual é A Diferença Entre PECVD E Pulverização Catódica?
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