A ALD pode efetuar uma deposição conforme devido ao seu processo e características únicos.
Em primeiro lugar, a ALD baseia-se em reacções auto-limitadas entre os reagentes gasosos e a superfície sólida. Isto significa que as reacções são controladas de forma a que apenas uma monocamada de material seja depositada de cada vez. Os reagentes são introduzidos no reator, um de cada vez, e reagem com a superfície até que todos os sítios reactivos estejam ocupados. Esta natureza auto-limitada assegura que o processo de deposição pára quando a superfície está totalmente coberta, resultando num revestimento conforme.
Em segundo lugar, a ALD oferece um controlo preciso da espessura ao nível da submonocamada. Os reagentes são injectados na câmara de forma alternada, nunca em simultâneo. Esta pulsação controlada permite um controlo preciso da espessura da película depositada. Ao ajustar o número de ciclos, a espessura da película pode ser controlada com precisão, permitindo uma deposição uniforme e conforme.
Em terceiro lugar, a ALD proporciona uma excelente cobertura por fases. A cobertura por etapas refere-se à capacidade de um processo de deposição para revestir uniformemente superfícies com geometrias complexas, incluindo topografias de elevado rácio de aspeto e superfícies curvas. A ALD é altamente eficaz no revestimento de tais superfícies devido à sua capacidade de depositar filmes de forma uniforme e conforme, mesmo em substratos curvos. Isto torna a ALD adequada para uma vasta gama de aplicações, incluindo engenharia de semicondutores, MEMS, catálise e nanotecnologia.
Por último, a ALD assegura uma elevada reprodutibilidade e qualidade de película. A natureza auto-limitada e auto-montada do mecanismo ALD conduz ao controlo estequiométrico e à qualidade inerente da película. O controlo preciso do processo de deposição e a utilização de substratos puros contribuem para as propriedades desejadas da película. Isto faz da ALD um método fiável para produzir películas nano-finas altamente uniformes e conformes.
Em resumo, a ALD consegue uma deposição conforme através de reacções auto-limitantes, controlo preciso da espessura, excelente cobertura de etapas e elevada reprodutibilidade. Estas características fazem da ALD uma técnica poderosa para depositar revestimentos altamente conformes, mesmo em geometrias complexas e superfícies curvas.
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