A pulverização catódica por feixe de iões é um método utilizado para criar películas finas. Envolve a utilização de uma ferramenta especial chamada fonte de iões para disparar partículas minúsculas chamadas iões sobre um material alvo. Estes iões destroem pedaços do material alvo, que depois aterram numa superfície para formar uma película fina. Este processo resulta numa película muito densa e de alta qualidade.
O que é o processo de pulverização catódica por feixe de iões? (4 etapas principais explicadas)
1. Geração do feixe de iões
Uma fonte de iões cria um feixe de iões. Estes iões são normalmente produzidos a partir de um gás inerte como o árgon. Todos eles têm o mesmo nível de energia e percorrem uma trajetória reta e estreita.
2. Impacto do ião no alvo
O feixe de iões é dirigido a um material alvo, que pode ser um metal ou um dielétrico. Os iões de alta energia atingem o alvo e destroem átomos ou moléculas devido à transferência de energia.
3. Deposição no substrato
O material desprendido do alvo viaja através do vácuo e cai num substrato. Isto forma uma película fina na superfície do substrato.
4. Controlo e precisão
A energia e a direção do feixe de iões podem ser controladas com precisão. Isto permite a criação de películas muito uniformes e densas, o que é importante para aplicações de alta precisão.
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