Conhecimento O que é a técnica de deposição induzida por feixe de electrões? (6 etapas principais explicadas)
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Equipe técnica · Kintek Solution

Atualizada há 2 meses

O que é a técnica de deposição induzida por feixe de electrões? (6 etapas principais explicadas)

A deposição induzida por feixe de electrões (EBID) é um processo utilizado para depositar materiais numa película fina sobre um substrato utilizando um feixe de electrões.

Explicação das 6 etapas principais

O que é a técnica de deposição induzida por feixe de electrões? (6 etapas principais explicadas)

1. Geração do feixe de electrões

O processo começa com a geração de um feixe de electrões. Normalmente, isto é conseguido através do aquecimento de um filamento (normalmente feito de tungsténio) a uma temperatura elevada, o que provoca a emissão termiónica de electrões. Em alternativa, pode ser utilizada a emissão de campo, em que é aplicado um campo elétrico elevado para extrair os electrões.

2. Manipulação do feixe e direcionamento

O feixe de electrões gerado é então manipulado utilizando campos eléctricos e magnéticos para o focar e dirigir para um cadinho que contém o material a depositar. O cadinho é frequentemente feito de um material com um elevado ponto de fusão que não reage com o material de deposição, e pode ser arrefecido para evitar o seu aquecimento.

3. Vaporização do material

Quando o feixe de electrões incide sobre o material no cadinho, transfere energia para o material, provocando a sua evaporação. Dependendo do material, isto pode envolver a fusão e depois a evaporação (para metais como o alumínio) ou a sublimação (para cerâmicas).

4. Deposição no substrato

O material evaporado viaja através da câmara de vácuo e deposita-se num substrato. O ambiente de alto vácuo assegura que o material se desloca em linha reta, permitindo uma deposição precisa. O substrato pode ser movido ou rodado durante o processo para obter revestimentos uniformes.

5. Melhorias e controlo

O processo de deposição pode ser melhorado através da utilização de feixes de iões para pré-tratar o substrato, aumentando a adesão do material depositado e resultando em revestimentos mais densos e robustos. O controlo informático de parâmetros como o aquecimento, os níveis de vácuo e o posicionamento do substrato permite a criação de revestimentos com espessuras e propriedades pré-especificadas.

6. Aplicações

O EBID é utilizado em várias indústrias, incluindo a ótica para a criação de revestimentos com propriedades reflectoras e transmissivas específicas, o fabrico de semicondutores para o crescimento de materiais electrónicos e a indústria aeroespacial para a formação de revestimentos protectores.

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