Conhecimento Quais são os métodos de revestimento PVD? (7 técnicas principais explicadas)
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Atualizada há 2 meses

Quais são os métodos de revestimento PVD? (7 técnicas principais explicadas)

PVD (Physical Vapor Deposition) é um processo de revestimento realizado num ambiente de vácuo. É conhecido pelas suas vantagens estéticas e de desempenho. Os principais métodos de revestimento por PVD incluem evaporação por arco catódico, pulverização catódica por magnetrão, evaporação por feixe de electrões, pulverização por feixe de iões, ablação por laser, evaporação térmica e revestimento iónico.

Quais são os métodos de revestimento PVD? (7 técnicas principais explicadas)

Quais são os métodos de revestimento PVD? (7 técnicas principais explicadas)

1. Evaporação por arco catódico

Este método envolve a evaporação do material de revestimento sólido através da passagem de um arco elétrico de alta potência sobre o material. Este processo provoca uma ionização quase completa do material de revestimento. Os iões metálicos, na câmara de vácuo, interagem com o gás reativo e, em seguida, atingem os componentes, aderindo a eles como um revestimento fino.

2. Sputter magnetrónico

Neste método, é utilizado um campo magnético para prender os electrões perto da superfície do alvo, o que aumenta a probabilidade de ionização dos átomos do alvo. Os átomos ionizados são então acelerados em direção ao substrato, depositando uma película fina.

3. Evaporação por feixe de electrões

Esta técnica utiliza um feixe de electrões para aquecer o material alvo até ao seu ponto de evaporação. O material evaporado condensa-se então no substrato, formando uma película fina.

4. Sputter por feixe de iões

Este método envolve a utilização de um feixe de iões para pulverizar o material de um alvo, que depois se deposita no substrato. Este processo é conhecido pelo seu elevado grau de controlo e pela capacidade de depositar materiais com elevada pureza.

5. Ablação por laser

Neste método, é utilizado um impulso de laser de alta potência para vaporizar o material do alvo, que depois se deposita no substrato. Esta técnica é particularmente útil para a deposição de materiais e compostos complexos.

6. Evaporação térmica

Esta é uma forma de deposição de película fina em que os materiais a aplicar são aquecidos para formar um vapor, que depois se condensa no substrato para formar o revestimento. O aquecimento pode ser conseguido através de vários métodos, incluindo filamentos quentes, resistência eléctrica, feixes de electrões ou de laser e arco elétrico.

7. Galvanização iónica

Este método envolve a utilização de plasma para depositar um revestimento. O processo combina a deposição de metal com um gás ativo e o bombardeamento do substrato por plasma para garantir um revestimento denso e duro.

Cada um destes métodos tem as suas próprias vantagens e é escolhido com base nos requisitos específicos do revestimento, tais como as propriedades do material, a espessura do revestimento e o tipo de substrato.

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