A evaporação térmica é um método popular para depositar películas finas devido às suas inúmeras vantagens.
10 principais benefícios do método de evaporação térmica
1. Compatibilidade com vários materiais
A evaporação térmica pode depositar metais e não metais, como alumínio, cromo, ouro e índio.
2. Adequação para materiais de baixo ponto de fusão
Este método é ideal para materiais com pontos de fusão baixos, incluindo ligas que contêm mercúrio ou gálio.
3. Uniformidade
Utilizando a fixação planetária do substrato e máscaras de uniformidade, a evaporação térmica garante uma excelente uniformidade.
4. Alta taxa de deposição
A evaporação térmica oferece uma elevada taxa de deposição, normalmente inferior a 50 Angstroms por segundo.
5. Boa direccionalidade
A nuvem de vapor é direcionada para o substrato, assegurando uma deposição mais uniforme e controlada.
6. Custo-efetividade
Em comparação com outros métodos de deposição física de vapor (PVD), a evaporação térmica tem um custo relativamente baixo.
7. Simplicidade
É o processo menos complexo entre os métodos PVD, o que facilita a instalação, o funcionamento e a manutenção.
8. Compatibilidade com fontes de assistência iónica
A evaporação térmica é compatível com fontes de assistência iónica, melhorando a qualidade da película através do aumento da densidade e da redução das impurezas.
9. Versatilidade
É versátil e eficiente, tornando-a adequada para uma vasta gama de aplicações industriais.
10. Eficiência
O método reduz significativamente o tempo de produção, tornando-o ideal para aplicações industriais onde o rendimento é crítico.
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