Quando se trata de obter uma melhor cobertura de degraus, particularmente em superfícies irregulares, a pulverização catódica é geralmente considerada superior à evaporação.
5 razões principais pelas quais a pulverização catódica é melhor para cobertura de degraus
1. Maior energia das espécies depositadas
Na pulverização catódica, a energia das espécies depositadas varia de 1-100 eV. Isto é significativamente maior do que na evaporação, onde é tipicamente 0,1-0,5 eV. A energia mais elevada permite que os átomos se adaptem melhor à topografia do substrato, conduzindo a uma melhor cobertura de degraus em superfícies irregulares.
2. Uniformidade e tamanho do grão
A pulverização catódica produz películas mais homogéneas com tamanhos de grão mais pequenos do que a evaporação. Esta homogeneidade é crucial para obter uma cobertura uniforme em geometrias complexas, garantindo que o filme seja distribuído uniformemente pela superfície, inclusive sobre degraus e bordas.
3. Adesão mais forte
A pulverização catódica resulta numa maior adesão da película ao substrato. Esta forte adesão é benéfica para manter a integridade da película, especialmente em superfícies com rácios de aspeto elevados ou formas complexas, onde uma fraca adesão poderia levar a descamação ou delaminação.
4. Taxas de absorção mais elevadas
Os processos de pulverização catódica tendem a ter taxas de absorção mais elevadas. Isto pode ser vantajoso para garantir que o material depositado se integre totalmente no substrato, melhorando ainda mais a cobertura do passo e a qualidade da película.
5. Complexidade e velocidade
Embora a pulverização catódica seja mais complexa e mais lenta do que a evaporação, estas caraterísticas são frequentemente compensadas pela qualidade superior e pela uniformidade das películas depositadas. A taxa de deposição mais lenta na pulverização catódica pode, na verdade, ser benéfica para obter uma melhor cobertura das etapas, uma vez que permite um controlo mais preciso da espessura e uniformidade da película.
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