Quando se trata de deposição de alumínio (Al) utilizando um sistema de pulverização catódica, o gás de arrastamento de eleição é normalmente o gás árgon (Ar).
O gás árgon é amplamente utilizado como gás de pulverização dentro da câmara de pulverização.
Este gás cria um plasma que bombardeia o material alvo, como o alumínio.
O bombardeamento ejecta átomos do alvo de alumínio para o vácuo.
Estes átomos de alumínio são então depositados no substrato para formar uma película fina.
O gás árgon é preferido como gás de transporte porque é inerte e não reage quimicamente com o material alvo.
Além disso, o peso atómico do árgon é próximo do do alumínio.
Esta semelhança no peso atómico permite uma transferência eficiente do momento durante o processo de pulverização catódica.
Que gás é utilizado como gás de arraste para a deposição de Al utilizando o sistema de pulverização catódica? (3 pontos-chave)
1. Gás árgon como gás de pulverização
O gás árgon é a escolha padrão para o gás de pulverização na câmara de pulverização.
2. Criação do plasma e bombardeamento do alvo
O gás árgon cria um plasma que bombardeia o alvo de alumínio.
Este bombardeamento ejecta átomos de alumínio para o vácuo.
3. Transferência eficiente de momento
O peso atómico do árgon é próximo do peso atómico do alumínio, facilitando uma transferência de momento eficiente durante o processo de pulverização catódica.
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