O gás normalmente utilizado como gás de transporte para a deposição de alumínio (Al) utilizando o sistema de pulverização catódica é o gás árgon (Ar). O gás árgon é normalmente utilizado como gás de pulverização na câmara de pulverização, onde cria um plasma que bombardeia um material alvo, como o alumínio, de modo a ejetar os átomos do material para o vácuo. Os átomos do alvo de alumínio são então depositados no substrato para formar uma película fina de alumínio. O gás árgon é preferido como gás de transporte porque é inerte e não reage quimicamente com o material alvo. Além disso, o peso atómico do árgon é próximo do do alumínio, permitindo uma transferência de momento eficiente durante o processo de pulverização catódica.
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