A deposição por evaporação térmica é um processo que envolve o aquecimento de materiais para criar revestimentos de película fina.
A temperatura necessária para este processo varia normalmente entre 250 e 350 graus Celsius.
Este intervalo de temperatura é crucial porque transforma os materiais de origem de um estado sólido para um estado de vapor.
Num sistema de evaporação térmica, é utilizada uma fonte de calor para atuar sobre um material sólido dentro de uma câmara de alto vácuo.
O material de origem é normalmente colocado na parte inferior da câmara.
O substrato, que é a superfície a ser revestida, é mantido numa posição invertida na parte superior da câmara.
O ambiente de vácuo na câmara permite que mesmo uma pressão de vapor relativamente baixa produza uma nuvem de vapor.
O fluxo de vapor, constituído por partículas evaporadas, atravessa então a câmara e adere à superfície do substrato como um revestimento de película fina.
É importante notar que o substrato que está a ser revestido também precisa de ser aquecido a uma temperatura elevada, variando entre cerca de 250 °C e 350 °C.
Isto assegura a correta aderência e deposição da película fina.
Qual é a temperatura da deposição por evaporação térmica? (250-350°C)
1. Gama de temperaturas para a deposição por evaporação térmica
A temperatura para a deposição por evaporação térmica varia normalmente entre 250 e 350 graus Celsius.
2. Transformação dos Materiais de Origem
Este intervalo de temperatura é necessário para transformar os materiais de origem de um estado sólido para um estado de vapor.
3. Fonte de calor e câmara de vácuo
Num sistema de evaporação térmica, uma fonte de calor actua sobre um material sólido dentro de uma câmara de alto vácuo.
4. Posicionamento do material de origem e do substrato
O material de origem está normalmente localizado na parte inferior da câmara, enquanto o substrato é mantido numa posição invertida na parte superior.
5. Ambiente de vácuo e nuvem de vapor
O ambiente de vácuo permite que mesmo uma pressão de vapor relativamente baixa produza uma nuvem de vapor.
6. Fluxo de vapor e revestimento de película fina
O fluxo de vapor, constituído por partículas evaporadas, atravessa a câmara e adere à superfície do substrato como um revestimento de película fina.
7. Aquecimento do substrato
O substrato a revestir também tem de ser aquecido a uma temperatura elevada, entre cerca de 250 °C e 350 °C, para garantir uma adesão e deposição adequadas da película fina.
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