A taxa de pulverização é o número de monocamadas por segundo que são pulverizadas a partir da superfície de um material alvo. É influenciada por vários factores, incluindo o rendimento da pulverização, o peso molar do material alvo, a densidade do material e a densidade da corrente iónica. O rendimento de pulverização catódica é o número de átomos ejectados por cada ião incidente e depende principalmente do material alvo, da massa das partículas de bombardeamento e da energia das partículas de bombardeamento.
No contexto dos processos de deposição por pulverização catódica, a taxa de pulverização catódica é um parâmetro importante, uma vez que determina a taxa a que o material alvo está a ser removido e depositado na superfície da amostra. No entanto, é importante notar que a taxa de pulverização pode variar dependendo das condições de pulverização, tais como a corrente de pulverização, a tensão de pulverização, a pressão, a distância entre o alvo e a amostra, o gás de pulverização, a espessura do alvo e o material da amostra.
É difícil calcular a taxa de deposição exacta devido à complexidade e variabilidade destes parâmetros. Por conseguinte, recomenda-se a utilização de um monitor de espessura para medir a espessura real do revestimento depositado. Além disso, vale a pena mencionar que a taxa de pulverização mede a quantidade de material removido do alvo, enquanto a taxa de deposição mede a quantidade de material do alvo depositado na superfície da amostra.
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