A taxa de pulverização catódica é um conceito crucial no domínio da ciência dos materiais.
Refere-se ao número de monocamadas por segundo que são removidas da superfície de um material alvo.
Esta taxa é influenciada por vários factores.
Um dos principais factores é o rendimento da pulverização catódica.
O rendimento de pulverização é o número de átomos ejectados por cada ião incidente.
Depende principalmente do material alvo, da massa das partículas de bombardeamento e da energia das partículas de bombardeamento.
Outro fator é a massa molar do material alvo.
A densidade do material também desempenha um papel importante.
Por último, a densidade da corrente de iões é um fator significativo.
Nos processos de deposição por pulverização catódica, a taxa de pulverização catódica é um parâmetro importante.
Esta determina a velocidade a que o material alvo é removido e depositado na superfície da amostra.
No entanto, a taxa de pulverização pode variar dependendo de várias condições.
Estas condições incluem a corrente de pulverização, a tensão de pulverização, a pressão, a distância entre o alvo e a amostra, o gás de pulverização, a espessura do alvo e o material da amostra.
O cálculo da taxa de deposição exacta pode ser difícil devido à complexidade e variabilidade destes parâmetros.
Por conseguinte, recomenda-se a utilização de um monitor de espessura para medir a espessura real do revestimento depositado.
Também é importante notar que a taxa de pulverização mede a quantidade de material removido do alvo.
A taxa de deposição, por outro lado, mede a quantidade de material alvo depositado na superfície da amostra.
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