A deposição de vapor químico (CVD) é uma técnica fundamental utilizada para o fabrico de películas finas e revestimentos. É particularmente importante na indústria de semicondutores.
5 Principais Aplicações da Deposição Química de Vapor no Fabrico
1. Películas finas e revestimentos
A CVD envolve a deposição de materiais num substrato através de uma reação química de precursores gasosos. Este processo é essencial para criar películas finas e revestimentos uniformes e de alta qualidade. Os materiais depositados podem variar de metais a isoladores, dependendo dos requisitos específicos da aplicação.
2. Indústria de semicondutores
Na indústria de semicondutores, a CVD desempenha um papel vital no processo de fabrico. É utilizada para depositar várias camadas de materiais que são cruciais para a funcionalidade dos dispositivos semicondutores. Por exemplo, na produção da tecnologia CMOS, a CVD é utilizada para depositar camadas de silício, dióxido de silício e outros materiais que constituem a base destes dispositivos.
3. Tecnologia CMOS
A tecnologia CMOS é uma tecnologia dominante no fabrico de circuitos integrados, microprocessadores e chips de memória. A CVD é utilizada na deposição do óxido de porta, do polissilício e de várias camadas dieléctricas no fabrico de CMOS. Estas camadas são fundamentais para o funcionamento e o desempenho dos dispositivos.
4. Síntese escalável de materiais 2D
A CVD é também um método prometedor para a síntese escalável de materiais bidimensionais (2D). Estes materiais têm propriedades únicas que os tornam valiosos para várias aplicações, incluindo a eletrónica e o armazenamento de energia. Embora os sistemas comerciais de CVD possam ser dispendiosos, foram desenvolvidos projectos de código aberto para tornar esta tecnologia mais acessível.
5. Precisão e controlo
A CVD é conhecida pela sua precisão e controlo, o que permite a criação de películas finas com caraterísticas muito específicas. Este nível de controlo é essencial em indústrias onde o desempenho dos materiais é crítico, como nos dispositivos semicondutores e nas células solares.
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