As desvantagens da pulverização catódica por feixe de iões (IBS) prendem-se principalmente com as suas limitações na obtenção de uma deposição uniforme em grandes áreas, com a elevada complexidade do equipamento e os custos de funcionamento, e com os desafios na integração do processo para uma estruturação precisa da película.
1. Área-alvo limitada e baixa taxa de deposição:
A pulverização catódica por feixe de iões é caracterizada por uma área alvo relativamente pequena para bombardeamento. Esta limitação afecta diretamente a taxa de deposição, que é geralmente mais baixa em comparação com outras técnicas de deposição. A pequena área alvo significa que, para superfícies maiores, atingir uma espessura de película uniforme é um desafio. Mesmo com avanços como a pulverização catódica de feixe duplo de iões, o problema da área alvo insuficiente persiste, levando à não uniformidade e à baixa produtividade.2. Complexidade e custos operacionais elevados:
O equipamento utilizado na pulverização catódica por feixe de iões é notoriamente complexo. Esta complexidade não só aumenta o investimento inicial necessário para instalar o sistema, como também conduz a custos de funcionamento mais elevados. Os intrincados requisitos de configuração e manutenção podem tornar a IBS uma opção economicamente menos viável para muitas aplicações, especialmente quando comparada com métodos de deposição mais simples e mais económicos.
3. Dificuldade de integração do processo para uma estruturação precisa da película:
A IBS enfrenta desafios quando se trata de integrar processos como o lift-off para estruturar a película. A natureza difusa do processo de pulverização catódica dificulta a obtenção de uma sombra completa, o que é essencial para restringir a deposição de átomos a áreas específicas. Esta incapacidade de controlar totalmente onde os átomos se depositam pode levar a problemas de contaminação e a dificuldades na obtenção de películas precisas e modeladas. Além disso, o controlo ativo do crescimento camada a camada é mais difícil na IBS do que em técnicas como a deposição por laser pulsado, em que é mais fácil gerir o papel dos iões pulverizados e reposicionados.
4. Inclusão de impurezas:
