As desvantagens do grafeno CVD (Chemical Vapor Deposition) incluem:
1. Gases tóxicos: Os gases precursores utilizados no processo CVD são altamente voláteis e podem produzir subprodutos tóxicos. Este facto constitui um risco para a saúde humana e exige um manuseamento e eliminação cuidadosos destes gases.
2. Equipamento dispendioso: O equipamento necessário para a CVD é relativamente caro em comparação com outros métodos de produção de grafeno. Este facto pode constituir um obstáculo para a produção em pequena escala ou para fins de investigação.
3. Sensibilidade às alterações dos parâmetros: A CVD é um processo sensível que pode ser facilmente influenciado por alterações de parâmetros como a temperatura, a pressão e o fluxo de gás. Isto exige um controlo preciso e a otimização destes parâmetros para obter grafeno de alta qualidade.
4. Escalabilidade limitada: Embora a CVD ofereça uma produção escalável de grafeno em grandes áreas, continua a ter limitações em termos de uniformidade e consistência numa grande área de superfície. Este facto pode afetar o desempenho e a qualidade do grafeno em aplicações industriais.
5. Outras formas de grafeno: O grafeno CVD não é a única forma de grafeno disponível. O grafeno esfoliado e o óxido de grafeno reduzido são formas alternativas com os seus próprios desafios específicos. O grafeno esfoliado e o óxido de grafeno reduzido têm uma condutividade inferior à das películas de grafeno CVD e enfrentam dificuldades na produção em grande escala e na obtenção de uniformidade.
Apesar destas desvantagens, o grafeno CVD oferece vantagens como a elevada qualidade, a homogeneidade, a impermeabilidade, a elevada pureza, os grãos finos e o bom controlo do número de camadas. Atualmente, é considerada a melhor forma de obter grafeno de alta qualidade, embora seja necessária mais investigação e desenvolvimento para enfrentar os desafios associados à sua produção e manuseamento.
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