Um reator de deposição química em fase vapor (CVD) é um sistema complexo concebido para depositar películas finas em substratos.
8 partes essenciais explicadas
1. Sistema de fornecimento de gás
Este sistema fornece os precursores à câmara do reator.
2. Câmara do reator
É aqui que ocorre a deposição da película fina.
3. Mecanismo de carregamento do substrato
Este sistema introduz e retira substratos para dentro e para fora da câmara do reator.
4. Fonte de energia
Fornece o calor ou a energia necessária para as reacções químicas.
5. Sistema de vácuo
Mantém um ambiente controlado através da remoção de gases indesejados.
6. Sistema de exaustão
Remove os subprodutos voláteis e os gases em excesso.
7. Sistemas de tratamento dos gases de escape
Tratam os componentes nocivos ou tóxicos dos gases de escape.
8. Equipamento de controlo do processo
Inclui medidores, controlos e sistemas de monitorização de parâmetros como a pressão, a temperatura e o tempo.
Cada componente é crucial para o funcionamento eficiente e eficaz de um reator CVD.
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