A pulverização catódica por radiofrequência é geralmente considerada superior à pulverização catódica por corrente contínua por várias razões, particularmente pela sua capacidade de depositar uma gama mais vasta de materiais e pela sua eficácia com alvos isolantes. Segue-se uma explicação pormenorizada das razões pelas quais a pulverização catódica RF é melhor do que a pulverização catódica DC:
1. Versatilidade na deposição de vários materiais:
A pulverização catódica RF é capaz de depositar uma grande variedade de materiais, incluindo isoladores, metais, ligas e compósitos. Esta versatilidade é particularmente útil nas indústrias em que as propriedades das películas sólidas finas têm de ser adaptadas a requisitos específicos. Ao contrário da pulverização catódica em corrente contínua, que tem dificuldades com alvos isolantes devido à acumulação de cargas, a pulverização catódica por radiofrequência pode tratar eficazmente estes materiais.2. Melhoria da qualidade da película e da cobertura por etapas:
A pulverização catódica por radiofrequência produz uma melhor qualidade de película e cobertura por etapas em comparação com os métodos de evaporação. Isto é crucial em aplicações onde a uniformidade e a aderência da película são críticas, como no fabrico de semicondutores.
3. Redução dos efeitos de carga e arco voltaico:
A utilização de uma fonte de RF CA a uma frequência de 13,56 MHz ajuda a evitar efeitos de carregamento e reduz a formação de arcos. Isto deve-se ao facto de o sinal do campo elétrico em cada superfície no interior da câmara de plasma mudar com a RF, impedindo a acumulação de cargas que podem levar à formação de arcos e a danos no material alvo.4. Funcionamento a pressões mais baixas:
A pulverização catódica por RF pode funcionar a pressões mais baixas (1 a 15 mTorr) enquanto mantém o plasma. Este ambiente de pressão mais baixa reduz o número de colisões entre as partículas de plasma carregadas e o material alvo, conduzindo a um caminho mais direto para o alvo de pulverização e a uma maior eficiência. Em contrapartida, a pulverização catódica em corrente contínua exige normalmente pressões mais elevadas (cerca de 100 mTorr), o que pode conduzir a mais colisões e a uma pulverização menos eficiente.
5. Inovações e avanços:
