O revestimento por pulverização catódica é um processo utilizado para depositar películas finas e uniformes de material num substrato.
Este processo é essencial para melhorar o desempenho das amostras na microscopia eletrónica de varrimento.
Ajuda a reduzir o carregamento, os danos térmicos e melhora a emissão de electrões secundários.
Qual é o princípio do revestimento por pulverização catódica? 5 etapas principais explicadas
1. Configuração da câmara de vácuo
O substrato a revestir é colocado dentro de uma câmara de vácuo cheia de um gás inerte, normalmente árgon.
Este ambiente é necessário para evitar a contaminação e garantir a transferência eficiente dos átomos pulverizados para o substrato.
2. Carregamento elétrico
O material alvo, frequentemente ouro ou outros metais, é carregado eletricamente para atuar como cátodo.
Esta carga inicia uma descarga incandescente entre o cátodo e um ânodo, criando um plasma.
3. Ação de pulverização catódica
No plasma, os electrões livres do cátodo colidem com os átomos de árgon, ionizando-os e formando iões de árgon com carga positiva.
Estes iões são então acelerados em direção ao material alvo carregado negativamente devido ao campo elétrico.
Após o impacto, desalojam átomos do alvo, num processo conhecido como pulverização catódica.
4. Deposição
Os átomos pulverizados percorrem um caminho aleatório e omnidirecional e acabam por se depositar no substrato, formando uma película fina.
A utilização de ímanes na pulverização catódica por magnetrão ajuda a controlar a erosão do material alvo, assegurando um processo de deposição uniforme e estável.
5. Ligação a nível atómico
Os átomos de alta energia pulverizados ligam-se fortemente ao substrato a nível atómico.
Isto faz com que o revestimento seja uma parte permanente do substrato e não apenas uma camada superficial.
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