No que diz respeito à tecnologia de plasma, dois tipos comuns são o plasma de RF (radiofrequência) e o plasma de micro-ondas.
Estes dois tipos de plasma diferem significativamente na forma como funcionam e para que são utilizados.
Compreender estas diferenças pode ajudá-lo a escolher o tipo certo de plasma para as suas necessidades específicas.
Qual é a diferença entre o plasma de RF e o plasma de micro-ondas? (5 diferenças principais)
1. Frequência de funcionamento
O plasma de RF funciona a uma frequência de aproximadamente 13,56 MHz.
O plasma de micro-ondas, por outro lado, funciona a uma frequência de cerca de 2,45 GHz.
A diferença de frequência leva a diferentes caraterísticas e aplicações para cada tipo de plasma.
2. Transferência de energia e aquecimento
O plasma de micro-ondas é caracterizado por uma elevada radiação electromagnética na gama dos GHz.
Esta elevada frequência permite uma transferência eficiente de energia e o aquecimento do produto tratado.
O plasma de micro-ondas é normalmente utilizado para sintetizar materiais de carbono, tais como diamantes, nanotubos de carbono e grafeno.
3. Requisitos de tensão
O plasma RF requer uma tensão mais elevada, de 1.012 volts ou superior, para atingir a mesma taxa de deposição que o plasma DC (corrente contínua).
O plasma RF envolve a utilização de ondas de rádio para remover os electrões das camadas exteriores dos átomos de gás.
Em contrapartida, o plasma de corrente contínua implica o bombardeamento direto dos átomos do plasma de gás por electrões.
4. Pressão da câmara
O plasma RF pode ser mantido a uma pressão de câmara significativamente mais baixa, inferior a 15 mTorr.
Isto é comparado com os 100 mTorr necessários para o plasma DC.
A pressão mais baixa permite um menor número de colisões entre as partículas de plasma carregadas e o material alvo, criando um caminho mais direto para as partículas serem pulverizadas no material do substrato.
5. Adequação a diferentes materiais-alvo
O plasma de radiofrequência é particularmente adequado para materiais alvo que possuem qualidades isolantes.
Os sistemas de plasma de RF, tais como os sistemas de radiofrequência (RF) que funcionam a 13,56 MHz, oferecem um funcionamento de longa duração sem pausas para manutenção, uma vez que não requerem a substituição dos eléctrodos.
Também funcionam com materiais alvo condutores e isolantes.
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