A pulverização catódica é um processo de deposição de película fina em que os átomos são ejectados de um material alvo devido ao bombardeamento por partículas de alta energia, sendo depois depositados num substrato. Este processo é amplamente utilizado em indústrias como a dos semicondutores, unidades de disco, CDs e dispositivos ópticos.
Explicação pormenorizada:
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Mecanismo de Sputtering:
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A pulverização catódica envolve a utilização de um plasma de partículas ou iões de alta energia que atingem a superfície de um alvo sólido. Este bombardeamento faz com que os átomos do alvo sejam ejectados. Os átomos ejectados viajam então através do vácuo e depositam-se num substrato, formando uma película fina. Este processo é um tipo de deposição física de vapor (PVD), o que significa que a deposição ocorre por meios físicos e não químicos.Desenvolvimento histórico:
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O fenómeno da pulverização catódica foi observado pela primeira vez no século XIX por cientistas como Grove e Faraday. No entanto, só em meados do século XX é que a pulverização catódica se tornou um processo industrial significativo, particularmente com o desenvolvimento de tecnologias como as placas de barbear pulverizadas com crómio na década de 1960. A compreensão teórica e as aplicações práticas da pulverização catódica evoluíram significativamente desde a sua descoberta, com avanços na tecnologia de vácuo e na física de plasma.
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Tipos de pulverização catódica:
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Existem diversas variações do processo de pulverização catódica, incluindo pulverização catódica, pulverização catódica de díodos, pulverização por radiofrequência ou corrente contínua, pulverização por feixe de iões e pulverização reactiva. Apesar dos diferentes nomes e técnicas específicas, todos estes métodos envolvem fundamentalmente a ejeção de átomos de um material alvo devido ao bombardeamento de iões.Aplicações:
A pulverização catódica é crucial no fabrico de películas finas com propriedades precisas, como as necessárias em semicondutores, dispositivos ópticos e revestimentos de precisão. Os filmes produzidos por pulverização catódica são conhecidos por sua excelente uniformidade, densidade e aderência, tornando-os adequados para uma ampla gama de aplicações em que essas características são essenciais.
