A pulverização catódica por feixe de iões (IBS) é uma técnica sofisticada utilizada em várias indústrias para a deposição de películas finas de alta qualidade.
Quais são as 5 principais vantagens da pulverização catódica por feixe de iões?
1. Menor pressão na câmara
O plasma na IBS está alojado dentro da fonte de iões.
Isto permite uma pressão de câmara muito mais baixa em comparação com a pulverização catódica por magnetrão tradicional.
Esta redução na pressão diminui significativamente o nível de contaminação no filme.
2. Ligação de energia óptima
A pulverização catódica por feixe de iões utiliza uma energia de ligação cerca de 100 vezes superior à do revestimento a vácuo.
Isto garante uma qualidade superior e uma ligação forte mesmo após a deposição na superfície.
3. Versatilidade
A IBS permite a deposição de qualquer material.
As caraterísticas de pulverização catódica dos diferentes materiais são mais pequenas do que as da evaporação.
Isto facilita a pulverização de materiais com elevados pontos de fusão.
Além disso, os materiais compostos de liga e alvo podem ser pulverizados para formar uma película com o mesmo rácio que o componente alvo.
4. Controlo de precisão
A pulverização por feixe de iões permite um controlo preciso de vários parâmetros.
Estes incluem a taxa de pulverização do alvo, o ângulo de incidência, a energia dos iões, a densidade da corrente de iões e o fluxo de iões.
