As vantagens da pulverização catódica por feixe de iões (IBS) incluem:
1. Pressão mais baixa na câmara: O plasma na IBS está alojado na fonte de iões, o que permite uma pressão muito mais baixa na câmara em comparação com a pulverização catódica por magnetrão tradicional. Isto reduz o nível de contaminação na película.
2. Ligação de energia óptima: A pulverização catódica por feixe de iões utiliza uma energia de ligação cerca de 100 vezes superior à do revestimento em vácuo. Isto garante uma qualidade superior e uma ligação forte mesmo após a deposição na superfície.
3. Versatilidade: A IBS permite a deposição de qualquer material. As características de pulverização catódica de diferentes materiais são mais pequenas do que as da evaporação, o que facilita a pulverização de materiais com elevados pontos de fusão. Além disso, as ligas e os materiais compostos alvo podem ser pulverizados para formar uma película com o mesmo rácio que o componente alvo.
4. Controlo de precisão: A pulverização catódica por feixe de iões permite um controlo preciso de vários parâmetros, como a taxa de pulverização do alvo, o ângulo de incidência, a energia dos iões, a densidade da corrente de iões e o fluxo de iões. Isto resulta em películas lisas, densas e firmemente depositadas com excelente precisão.
5. Uniformidade: A pulverização catódica por feixe de iões proporciona uma elevada uniformidade das películas pulverizadas. O feixe de iões pode ser focado e varrido com precisão, permitindo uma deposição uniforme no substrato. Além disso, a energia, o tamanho e a direção do feixe de iões podem ser controlados, garantindo uma película uniforme sem colisões.
Apesar destas vantagens, a pulverização catódica por feixe de iões também tem algumas limitações. A área alvo de bombardeamento é relativamente pequena, o que resulta numa taxa de deposição geralmente baixa. Pode não ser adequado para depositar películas de grande área com espessura uniforme. Além disso, o dispositivo de pulverização catódica pode ser complexo e os custos de funcionamento do equipamento tendem a ser mais elevados em comparação com outras técnicas de deposição.
Em geral, a pulverização catódica por feixe de iões é uma técnica valiosa para obter uma deposição de películas finas de alta qualidade com controlo e uniformidade precisos. Encontra amplas aplicações em várias indústrias.
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