Conhecimento Como é medida a espessura da película depositada?
Avatar do autor

Equipe técnica · Kintek Solution

Atualizada há 1 semana

Como é medida a espessura da película depositada?

A espessura das películas depositadas pode ser medida utilizando vários métodos, cada um com o seu próprio conjunto de requisitos e aplicações. Os principais métodos incluem a perfilometria, a interferometria, a microscopia eletrónica de transmissão (TEM) e a espetrofotometria, cada um deles adequado a diferentes espessuras de película e propriedades do material.

Profilometria e Interferometria:

A perfilometria e a interferometria são métodos mecânicos que requerem uma ranhura ou degrau entre a película e o substrato. Estas ranhuras são criadas quer mascarando partes do substrato, quer removendo seletivamente partes da película depositada. Na perfilometria com caneta, uma caneta traça fisicamente o perfil da superfície, medindo a diferença de altura entre a película e o substrato. A interferometria, por outro lado, utiliza a interferência de ondas de luz para medir a espessura. Este método requer uma superfície altamente reflectora para gerar franjas de interferência, que são depois analisadas para determinar a espessura da película. Ambos os métodos medem a espessura em pontos específicos, tornando a uniformidade da película um fator crítico para a precisão.Microscopia Eletrónica de Transmissão (TEM):

A TEM é utilizada para analisar películas finas, particularmente na gama de alguns nanómetros a 100 nm. Este método envolve a utilização de um feixe de iões focalizado (FIB) para preparar amostras com espessuras adequadas. O TEM fornece imagens de alta resolução, permitindo uma análise pormenorizada da estrutura e espessura da película. É particularmente útil para materiais condutores e semicondutores.

Espectrofotometria:

A espetrofotometria é utilizada para medir espessuras de película entre 0,3 e 60 µm. Este método utiliza o princípio da interferência, em que a interferência das ondas de luz é afetada pela espessura e pelo índice de refração da película. Analisando os padrões de interferência, a espessura da película pode ser determinada. Este método é eficaz para películas transparentes e requer o conhecimento do índice de refração da película.

Seleção da técnica de medição:

Produtos relacionados

Máquina de revestimento PECVD de deposição por evaporação reforçada por plasma

Máquina de revestimento PECVD de deposição por evaporação reforçada por plasma

Actualize o seu processo de revestimento com equipamento de revestimento PECVD. Ideal para LED, semicondutores de potência, MEMS e muito mais. Deposita películas sólidas de alta qualidade a baixas temperaturas.

Sistema RF PECVD Deposição de vapor químico enriquecido com plasma e radiofrequência

Sistema RF PECVD Deposição de vapor químico enriquecido com plasma e radiofrequência

RF-PECVD é um acrónimo de "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". Deposita DLC (película de carbono tipo diamante) em substratos de germânio e silício. É utilizado na gama de comprimentos de onda infravermelhos de 3-12um.

Equipamento HFCVD de revestimento de nano-diamante de matriz de desenho

Equipamento HFCVD de revestimento de nano-diamante de matriz de desenho

O molde de trefilagem de revestimento composto de nano-diamante utiliza carboneto cimentado (WC-Co) como substrato e utiliza o método da fase de vapor químico (abreviadamente, método CVD) para revestir o revestimento composto de diamante convencional e nano-diamante na superfície do orifício interior do molde.

Revestimento de diamante CVD

Revestimento de diamante CVD

Revestimento de Diamante CVD: Condutividade Térmica Superior, Qualidade de Cristal e Adesão para Ferramentas de Corte, Atrito e Aplicações Acústicas

Máquina de diamante MPCVD com ressonador cilíndrico para crescimento de diamante em laboratório

Máquina de diamante MPCVD com ressonador cilíndrico para crescimento de diamante em laboratório

Saiba mais sobre a Máquina MPCVD com Ressonador Cilíndrico, o método de deposição de vapor químico por plasma de micro-ondas utilizado para o crescimento de pedras preciosas e películas de diamante nas indústrias de joalharia e de semicondutores. Descubra as suas vantagens económicas em relação aos métodos HPHT tradicionais.

Máquina de diamante MPCVD com ressonador de jarro de sino para laboratório e crescimento de diamante

Máquina de diamante MPCVD com ressonador de jarro de sino para laboratório e crescimento de diamante

Obtenha películas de diamante de alta qualidade com a nossa máquina MPCVD com ressonador de jarro de sino, concebida para laboratório e crescimento de diamantes. Descubra como a Deposição de Vapor Químico por Plasma de Micro-ondas funciona para o crescimento de diamantes usando gás carbónico e plasma.

Prensa isostática a frio de laboratório eléctrica (CIP) 12T / 20T / 40T / 60T

Prensa isostática a frio de laboratório eléctrica (CIP) 12T / 20T / 40T / 60T

Produza peças densas e uniformes com propriedades mecânicas melhoradas com a nossa Prensa Isostática a Frio para Laboratório Elétrico. Amplamente utilizada na investigação de materiais, farmácia e indústrias electrónicas. Eficiente, compacta e compatível com vácuo.

Prensa de laminação a vácuo

Prensa de laminação a vácuo

Experimente uma laminação limpa e precisa com a Prensa de Laminação a Vácuo. Perfeita para a ligação de bolachas, transformações de película fina e laminação LCP. Encomendar agora!

Prensa isostática manual a frio para pellets (CIP) 12T / 20T / 40T / 60T

Prensa isostática manual a frio para pellets (CIP) 12T / 20T / 40T / 60T

A Prensa Isostática Manual de Laboratório é um equipamento de alta eficiência para a preparação de amostras, amplamente utilizado na investigação de materiais, farmácia, cerâmica e indústrias electrónicas. Permite um controlo preciso do processo de prensagem e pode funcionar em ambiente de vácuo.

Folha de espuma metálica - Espuma de cobre / Níquel

Folha de espuma metálica - Espuma de cobre / Níquel

Descubra as vantagens das folhas de espuma metálica para testes electroquímicos. As nossas folhas de espuma de cobre/níquel são ideais para colectores de corrente e condensadores.

Folha de vidro de quartzo ótico resistente a altas temperaturas

Folha de vidro de quartzo ótico resistente a altas temperaturas

Descubra o poder das folhas de vidro ótico para a manipulação precisa da luz nas telecomunicações, na astronomia e muito mais. Desbloqueie os avanços na tecnologia ótica com uma clareza excecional e propriedades de refração adaptadas.

Placa ótica de quartzo JGS1 / JGS2 / JGS3

Placa ótica de quartzo JGS1 / JGS2 / JGS3

A placa de quartzo é um componente transparente, durável e versátil, amplamente utilizado em vários sectores. Fabricada a partir de cristal de quartzo de alta pureza, apresenta uma excelente resistência térmica e química.

Revestimento de transmissão de infravermelhos folha de safira / substrato de safira / janela de safira

Revestimento de transmissão de infravermelhos folha de safira / substrato de safira / janela de safira

Fabricado a partir de safira, o substrato possui propriedades químicas, ópticas e físicas sem paralelo. A sua notável resistência aos choques térmicos, às altas temperaturas, à erosão pela areia e à água distinguem-no.

Silicone de infravermelhos / Silicone de alta resistência / Lente de silicone de cristal único

Silicone de infravermelhos / Silicone de alta resistência / Lente de silicone de cristal único

O silício (Si) é amplamente considerado como um dos materiais minerais e ópticos mais duráveis para aplicações na gama do infravermelho próximo (NIR), aproximadamente de 1 μm a 6 μm.

Forno de grafitização de película de alta condutividade térmica

Forno de grafitização de película de alta condutividade térmica

O forno de grafitização de película de alta condutividade térmica tem temperatura uniforme, baixo consumo de energia e pode funcionar continuamente.


Deixe sua mensagem