As fontes de pulverização catódica magnetrónica são arrefecidas durante a deposição por várias razões.
4 Principais razões pelas quais as fontes de pulverização catódica com magnetrões são arrefecidas durante a deposição
1. Dissipação de calor
Durante o processo de pulverização catódica, iões de alta energia bombardeiam o material alvo.
Isto provoca a ejeção de átomos de metal e gera calor.
O arrefecimento do alvo com água ajuda a dissipar este calor e a evitar o sobreaquecimento.
Ao manter uma temperatura mais baixa, o material alvo pode continuar a libertar eficazmente átomos para deposição sem atingir o seu ponto de fusão.
2. Prevenção de danos
A utilização de ímanes fortes na pulverização catódica por magnetrões ajuda a confinar os electrões no plasma perto da superfície do alvo.
Este confinamento evita o impacto direto dos electrões com o substrato ou a película em crescimento, o que poderia causar danos.
O arrefecimento do alvo ajuda ainda a evitar danos, reduzindo a transferência de energia do material do alvo para o substrato.
3. Manutenção da qualidade da película
O arrefecimento do alvo na pulverização catódica por magnetrão ajuda a manter a qualidade da película depositada.
Ao controlar a temperatura, o processo de deposição pode ser optimizado para atingir as propriedades desejadas da película, como a espessura, a adesão e a uniformidade.
O arrefecimento também ajuda a minimizar a incorporação de gases de fundo na película em crescimento, resultando num revestimento de maior qualidade.
4. Compatibilidade com vários materiais
A pulverização catódica por magnetrão é uma técnica de deposição versátil que pode ser utilizada com uma vasta gama de materiais, independentemente da sua temperatura de fusão.
O arrefecimento do alvo permite a deposição de materiais com pontos de fusão mais elevados, alargando a gama de materiais de revestimento possíveis.
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