A pulverização catódica é um processo que se baseia na transferência de momento de iões energéticos para átomos num material alvo sólido.
Esta transferência resulta na ejeção destes átomos para a fase gasosa.
O processo é essencial para a deposição de filmes finos e várias técnicas analíticas.
Em que transferência se baseia a pulverização catódica? 5 pontos-chave explicados
1. Bombardeamento de iões
No processo de pulverização catódica, os iões de um gás inerte, normalmente árgon, são acelerados por um campo elétrico em direção a um material alvo.
Estes iões são carregados positivamente e são atraídos para o alvo carregado negativamente a altas velocidades.
2. Transferência de momento
Após o impacto, os iões energéticos transferem o seu momento para os átomos do material alvo.
Esta transferência é parcialmente inelástica, o que significa que parte da energia cinética dos iões é convertida em energia vibracional dentro do material alvo.
3. Ejeção dos átomos do alvo
O momento transferido é suficiente para ultrapassar a energia de ligação entre os átomos do alvo.
Isto faz com que estes sejam ejectados da estrutura do material para o estado gasoso dentro da câmara de revestimento.
Esta ejeção de átomos é conhecida como pulverização catódica.
4. Deposição em substratos
Os átomos ou partículas pulverizados viajam através do espaço de vácuo e são depositados num substrato, formando uma película fina.
Esta deposição pode ocorrer por linha de visão ou as partículas podem ser novamente ionizadas e aceleradas por forças eléctricas até ao substrato.
5. Versatilidade na aplicação
Uma vez que a pulverização catódica não requer a fusão do material de origem, pode ser aplicada em várias orientações e formas complexas.
Isto torna-o um método versátil para revestir diferentes tipos de superfícies.
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