Quando se trata de depositar películas finas, dois métodos comuns são o LPCVD (Deposição Química de Vapor a Baixa Pressão) e o PECVD (Deposição Química de Vapor com Plasma). Estas técnicas têm as suas próprias caraterísticas únicas e são adequadas para diferentes aplicações. Aqui está uma análise das principais diferenças entre o óxido LPCVD e o óxido PECVD.
5 principais diferenças entre o óxido LPCVD e o óxido PECVD
1. Temperatura
O LPCVD funciona a temperaturas mais elevadas, normalmente acima dos 700°C.
O PECVD, por outro lado, opera a temperaturas mais baixas, variando de 200 a 400°C.
A temperatura mais baixa do PECVD é benéfica quando é necessário um processamento a temperaturas mais baixas devido a preocupações com o ciclo térmico ou a limitações do material.
2. Substrato
A LPCVD requer um substrato de silício.
A PECVD pode utilizar um substrato à base de tungsténio.
As películas LPCVD são depositadas diretamente sobre o substrato de silício.
As películas PECVD podem ser depositadas em vários substratos, incluindo metais.
3. Qualidade da película
As películas LPCVD são normalmente de qualidade superior às películas PECVD.
As películas LPCVD têm um menor teor de hidrogénio e menos orifícios, o que resulta numa melhor integridade e desempenho da película.
As películas PECVD podem ter um teor de hidrogénio mais elevado e uma qualidade inferior devido às temperaturas de deposição mais baixas.
4. Taxa de deposição
A LPCVD tem geralmente uma taxa de deposição mais elevada do que a PECVD.
O LPCVD pode depositar películas a um ritmo mais rápido, permitindo uma produção mais rápida.
A PECVD, embora mais lenta, oferece mais flexibilidade em termos de controlo da taxa de deposição.
5. Flexibilidade do processo
A PECVD oferece maior flexibilidade em termos de parâmetros de processo e de materiais.
Pode ser utilizado para uma gama mais vasta de aplicações e pode depositar vários tipos de películas, incluindo óxido de silício.
O LPCVD é mais comummente utilizado para aplicações específicas, como a deposição de silício epitaxial.
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