Conhecimento O que é um alvo num processo de pulverização catódica?
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Equipe técnica · Kintek Solution

Atualizada há 1 semana

O que é um alvo num processo de pulverização catódica?

Um alvo num processo de pulverização catódica é um disco fino ou uma folha de material utilizado para depositar películas finas num substrato, como uma bolacha de silício. O processo envolve a ejeção física de átomos da superfície do alvo, bombardeando-o com iões, normalmente de um gás inerte como o árgon. Estes átomos ejectados viajam então através da câmara de vácuo e depositam-se no substrato, formando uma película fina e uniforme.

Explicação pormenorizada:

  1. Composição e Forma dos Alvos de Sputtering:

  2. Os alvos de aspersão são normalmente feitos de metais, cerâmicas ou plásticos, dependendo da aplicação desejada. Eles têm a forma de discos ou folhas finas, que são montados numa câmara de vácuo onde ocorre o processo de pulverização catódica.Processo de Sputtering:

  3. O processo de pulverização catódica começa com a introdução de um substrato numa câmara de vácuo que contém o alvo. Um gás inerte, como o árgon, é introduzido na câmara. Os iões deste gás são acelerados em direção ao alvo através de campos eléctricos. Quando estes iões colidem com o alvo, transferem energia, fazendo com que os átomos do alvo sejam ejectados.

  4. Deposição de películas finas:

  5. Os átomos ejectados do alvo viajam através da câmara e depositam-se no substrato. A baixa pressão e o ambiente controlado na câmara asseguram que os átomos se depositam uniformemente, resultando numa película fina de espessura consistente. Este processo é crucial para aplicações que requerem revestimentos precisos e uniformes, como em microeletrónica e células solares.Aplicações de alvos de pulverização catódica:

Os alvos de pulverização catódica são amplamente utilizados em várias indústrias. Na microeletrónica, são utilizados para depositar materiais como o alumínio, o cobre e o titânio em bolachas de silício para criar dispositivos electrónicos. Nas células solares, os alvos feitos de materiais como o molibdénio são utilizados para produzir películas finas condutoras. Além disso, os alvos de pulverização catódica são usados na produção de revestimentos decorativos e optoelectrónica.

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