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Um alvo num processo de pulverização catódica é uma peça sólida de material que serve como fonte para criar um revestimento de película fina num substrato.Tem normalmente uma forma plana ou cilíndrica e é bombardeado com energia para ejetar partículas de tamanho atómico, que depois se depositam no substrato.O alvo deve ser suficientemente grande para evitar a pulverização acidental de outros componentes, e a sua superfície é sempre maior do que a área efetivamente pulverizada.Com o tempo, os alvos usados desenvolvem ranhuras mais profundas ou áreas de pulverização predominante, muitas vezes referidas como \"pistas de corrida\".

Pontos-chave explicados:

1. Definição e função de um alvo na pulverização catódica:

   • O alvo é o material sólido utilizado no processo de pulverização catódica para criar um revestimento de película fina.
   • Funciona como a fonte de matéria-prima, a partir da qual as partículas de tamanho atómico são ejectadas e depositadas num substrato.

2. Caraterísticas físicas de um alvo:

   • Os alvos são normalmente de forma plana ou cilíndrica.
   • Devem ser suficientemente grandes para evitar a pulverização acidental de rolamentos metálicos ou outros componentes.
   • A superfície do alvo é sempre maior do que a área real a ser pulverizada para garantir uma deposição uniforme e evitar efeitos de borda.

3. Processo de pulverização catódica e interação com o alvo:

   • Na pulverização catódica por magnetrão, um magnetrão é colocado perto do alvo e um gás inerte (por exemplo, árgon) é introduzido na câmara de vácuo.
   • É aplicada uma alta tensão entre o alvo e o substrato, acelerando os iões de gás em direção ao alvo.
   • O bombardeamento do alvo por estes iões ejecta partículas de tamanho atómico, que formam uma película fina no substrato.

4. Desgaste do alvo e \"pistas de corrida\":

   • Com o tempo, a superfície do alvo desenvolve sulcos mais profundos ou áreas onde a pulverização catódica foi predominante.
   • Estas áreas desgastadas são muitas vezes referidas como \"pistas de corrida\" devido ao seu aspeto distinto.
   • A formação de pistas de corrida indica que o alvo está a aproximar-se do fim da sua vida útil.

5. Exemplo:Objectivos de ouro:

   • Os alvos de ouro são discos de ouro puro utilizados especificamente para a deposição de películas finas de ouro.
   • São bombardeados com energia para ejetar átomos de ouro, que depois se depositam no substrato para formar um revestimento uniforme de ouro.

6. Importância do tamanho e da forma do alvo:

   • O tamanho e a forma do alvo são fundamentais para garantir uma pulverização eficiente e uniforme.
   • Uma maior área de superfície do alvo ajuda a evitar a pulverização não intencional de outros componentes e garante taxas de deposição consistentes.

7. Aplicação na deposição de película fina:

   • Os alvos são essenciais em várias indústrias, incluindo o fabrico de semicondutores, a ótica e os revestimentos decorativos.
   • A escolha do material do alvo depende das propriedades desejadas da película fina, tais como condutividade, refletividade ou resistência à corrosão.

Ao compreender estes pontos-chave, um comprador de equipamento de pulverização catódica ou de consumíveis pode tomar decisões informadas sobre a seleção e manutenção de alvos para otimizar o processo de pulverização catódica e obter revestimentos de película fina de alta qualidade.

Tabela de resumo:

Aspeto-chave	Detalhes
Definição	Material sólido utilizado para criar revestimentos de película fina por pulverização catódica.
Forma	Tipicamente plana ou cilíndrica.
Tamanho	Maior do que a área pulverizada para evitar a pulverização não intencional.
Processo	Bombardeado com energia para ejetar partículas, que se depositam num substrato.
Desgaste	Desenvolve "pistas de corrida" ao longo do tempo, indicando que se aproxima o fim da vida útil.
Exemplo	Alvos de ouro para a deposição de películas finas de ouro.
Aplicações	Utilizado em semicondutores, ótica e revestimentos decorativos.

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